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1. (WO2001002500) SUBSTANCE DE REVETEMENT ET SON UTILISATION POUR LA REALISATION DE COUCHES DE CHARGE ET D'APPRETS DE RESISTANCE AUX IMPACTS DE GRAVILLONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2001/002500    N° de la demande internationale :    PCT/EP2000/005826
Date de publication : 11.01.2001 Date de dépôt international : 23.06.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.12.2000    
CIB :
B05D 7/00 (2006.01), C08F 212/32 (2006.01), C08F 220/06 (2006.01), C08F 220/28 (2006.01), C08L 51/00 (2006.01), C08L 53/00 (2006.01), C09D 151/00 (2006.01), C09D 153/00 (2006.01)
Déposants : BASF COATINGS AG [DE/DE]; Glasuritstr. 1, D-48165 Münster (DE) (Tous Sauf US).
BREMSER, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : BREMSER, Wolfgang; (DE)
Mandataire : FITZNER, Uwe; Lintorfer Str. 10, D-40878 Ratingen (DE)
Données relatives à la priorité :
199 30 067.4 30.06.1999 DE
Titre (DE) BESCHICHTUNGSSTOFF UND SEINE VERWENDUNG ZUR HERSTELLUNG VON FÜLLERSCHICHTEN UND STEINSCHLAGSCHUTZGRUNDIERUNGEN
(EN) COATING MATERIAL AND ITS USE FOR PRODUCING FILLER COATS AND STONE IMPACT PROTECTION PRIMERS
(FR) SUBSTANCE DE REVETEMENT ET SON UTILISATION POUR LA REALISATION DE COUCHES DE CHARGE ET D'APPRETS DE RESISTANCE AUX IMPACTS DE GRAVILLONS
Abrégé : front page image
(DE)Verwendung eines Copolymerisats (A), herstellbar durch radikalische Polymerisation von: a) mindestens einem olefinisch ungesättigten Monomer und b) mindestens einem vom olefinisch ungesättigten Monomer (a) verschiedenen olefinisch ungesättigten Monomer der allgemeinen Formel (I): R?1¿R?2¿C=CR?3¿R?4¿, worin die Reste R?1¿, R?2¿, R?3¿ und R?4¿ jeweils unabhängig voneinander für Wasserstoffatome oder substituierte oder unsubstituierte Alkyl-, Cycloalkyl-, Alkylcycloalkyl-, Cycloalkylalkyl-, Aryl-, Alkylaryl-, Cycloalkylaryl-, Arylalkyl- oder Arylcycloalkylreste stehen, mit der Massgabe, dass mindestens zwei der Variablen R?1¿, R?2¿, R?3¿ und R?4¿ für substituierte oder unsubstituierte Aryl-, Arylalkyl- oder Arylcycloalkylreste, insbesondere substituierte oder unsubstituierte Arylreste, stehen; in einem wässrigen Medium, in einem Beschichtungsstoff, der der Herstellung von Füllerschichten und Steinschlagschutzgrundierungen dient.
(EN)The invention relates to a copolymerizate (A) which can be produced in an aqueous medium by radically polymerizing: a) at least one olefinically unsaturated monomer, and b) at least one olefinically unsaturated monomer which is different from the olefinically unsaturated monomer cited in a) and which is of general formula (I) R?1¿R?2¿C=CR?3¿R?4¿ (I), wherein the radicals R?1¿, R?2¿, R?3¿ and R?4¿, independent of one another, represent hydrogen atoms or substituted or non-substituted radicals of alkyl, cycloalkyl, alkylcycloalkyl, cycloalkylalkyl, aryl, alkylaryl, cycloalkylaryl, arylalkyl or arylcycloalkyl, with the provision that at least two of the variables R?1¿, R?2¿, R?3¿ and R¿4? represent substituted or non-substituted radicals of aryl, arylalkyl or arylcycloalkyl, especially substituted or non-substituted aryl radicals. Said copolymerizate is used in a coating material which serves to produce filler coats and stone impact protection primers.
(FR)La présente invention concerne l'utilisation, dans une substance de revêtement servant à la réalisation de couches de charge et d'apprêts de résistance aux impacts de gravillons, d'un copolymère (A) pouvant être obtenu par polymérisation radicalaire dans un milieu aqueux, a) d'au moins un monomère oléfiniquement insaturé et b) d'au moins un monomère de formule (I) R?1¿R?2¿C=CR?3¿R?4¿ différemment oléfiniquement insaturé par le monomère oléfiniquement insaturé a). Dans la formule (I), les résidus R?1¿, R?2¿, R?3¿ et R?4¿ sont indépendamment les uns des autres des atomes d'hydrogène ou des résidus substitués ou non alkyle, cycloalkyle, alkylcycloalkyle, cycloalkylalkyle, aryle, alkylaryle, cycloalkylaryle, arylalkyle ou arylcycloalkyle, au moins deux d'entre eux étant des résidus substitués ou non aryle, arylalkyle ou arylcycloalkyle, en particulier des résidus aryle substitués ou non.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)