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1. (WO2000054107) LITHOGRAVURE EN PHOTOREPETITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2000/054107    N° de la demande internationale :    PCT/US2000/005751
Date de publication : 14.09.2000 Date de dépôt international : 03.03.2000
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    16.08.2000    
CIB :
G03F 7/00 (2006.01), H05K 3/06 (2006.01)
Déposants : BOARD OF REGENTS, THE UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM [US/US]; 201 West Seventh Street, Austin, TX 78701 (US)
Inventeurs : WILLSON, Carlton, Grant; (US).
COLBURN, Matthew, Earl; (US)
Mandataire : SMITH, Robert, J.; Myers, Bigel, Sibley, & Sajovec, P.A., P.O. Box 37428, Raleigh, NC 27627 (US)
Données relatives à la priorité :
09/266,663 11.03.1999 US
Titre (EN) STEP AND FLASH IMPRINT LITHOGRAPHY
(FR) LITHOGRAVURE EN PHOTOREPETITION
Abrégé : front page image
(EN)A method of forming a relief image in a structure comprising a substrate and a transfer layer formed thereon comprises covering the transfer layer with a polymerizable fluid composition, and then contacting the polymerizable fluid composition with a mold having a relief structure formed therein such that the polymerizable fluid composition fills the relief structure in the mold. The polymerizable fluid composition is subjected to conditions to polymerize polymerizable fluid composition and form a solidified polymeric material therefrom on the transfer layer. The mold is then separated from the solid polymeric material such that a replica of the relief structure in the mold is formed in the solidified polymeric material; and the transfer layer and the solidified polymeric material are subjected to an environment to selectively etch the transfer layer relative to the solidified polymeric material such that a relief image is formed in the transfer layer.
(FR)L'invention porte sur un procédé de formation d'une image en relief dans une structure comprenant un substrat et une couche de transfert formée dessus, consistant à recouvrir la couche de transfert d'une composition polymérisable liquide, puis à mettre la composition polymérisable en contact avec un moule de manière à ce que le liquide polymérisable en remplisse les reliefs. La composition polymérisable est ensuite soumise à des conditions de polymérisation qui forment sur la couche de transfert un polymère durci. On retire ensuite le moule dont le polymère durci présente une réplique du relief. On soumet alors la couche de transfert et le polymère durci à des conditions qui gravent sélectivement ladite couche par rapport au polymère durci de manière à former une image en relief dans la couche de transfert.
États désignés : DE, GB, JP.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)