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1. (WO1999050606) SUPPORT DE SUBSTRAT POUR CHAMBRE DE TRAITEMENT THERMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1999/050606    N° de la demande internationale :    PCT/US1999/003928
Date de publication : 07.10.1999 Date de dépôt international : 23.02.1999
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    25.10.1999    
CIB :
C23C 16/458 (2006.01), C30B 25/12 (2006.01), C30B 31/14 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventeurs : MAYUR, Abhilash; (US).
STERN, Lewis, A.; (US)
Mandataire : BERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP 7th floor 12400 Wilshire Boulevard Los Angeles, CA 90025 (US)
Données relatives à la priorité :
09/053,290 01.04.1998 US
Titre (EN) SUBSTRATE SUPPORT FOR A THERMAL PROCESSING CHAMBER
(FR) SUPPORT DE SUBSTRAT POUR CHAMBRE DE TRAITEMENT THERMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A substrate support, such as an edge ring (134), includes an inner portion (150), and an outer portion (152) contiguous with the inner portion (150) and extending radially outward therefrom. The inner portion (150) has a raised annular extension (164) forming a ridge for supporting a substrate.
(FR)L'invention concerne un support de substrat, tel qu'un anneau de bordure (134), qui comporte une partie intérieure (150) et une partie extérieure (152) contiguë à la partie intérieure (150) et s'étendant radialement vers l'extérieur par rapport à celle-ci. La partie intérieure (150) comporte une extension annulaire surélevée (164) formant une arête destinée à soutenir un substrat.
États désignés : JP, KR.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)