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1. WO1999002970 - DISPOSITIF PERMETTANT D'ANALYSER DES COUCHES MINCES EMPILEES SUR DES SEMI-CONDUCTEURS

Numéro de publication WO/1999/002970
Date de publication 21.01.1999
N° de la demande internationale PCT/US1998/011562
Date du dépôt international 05.06.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 25.01.1999
CIB
G01B 11/06 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
BMESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
11Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de moyens optiques
02pour mesurer la longueur, la largeur ou l'épaisseur
06pour mesurer l'épaisseur
CPC
G01B 11/0641
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
11Measuring arrangements characterised by the use of optical means
02for measuring length, width or thickness
06for measuring thickness, e.g. of sheet material
0616of coating
0641with measurement of polarization
Déposants
  • THERMA-WAVE, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • ROSENCWAIG, Allan
  • OPSAL, Jon
  • ASPNES, David, E.
  • FANTON, Jeffrey, T.
Mandataires
  • STALLMAN, Michael, A.
Données relatives à la priorité
08/890,69711.07.1997US
09/015,83929.01.1998US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) AN APPARATUS FOR ANALYZING MULTI-LAYER THIN FILM STACKS ON SEMICONDUCTORS
(FR) DISPOSITIF PERMETTANT D'ANALYSER DES COUCHES MINCES EMPILEES SUR DES SEMI-CONDUCTEURS
Abrégé
(EN)
An optical measurement system is disclosed for evaluating samples with multi-layer thin film stacks. The optical measurement system includes a reference ellipsometer and one or more non-contact optical measurement devices. The reference ellipsometer is used to calibrate the other optical measurement devices. Once calibration is completed, the system can be used to analyse multi-layer thin film stacks. In particular, the reference ellipsometer provides a measurement which can be used to determine the total optical thickness of the stack. Using that information coupled with the measurements made by the other optical measurement devices, more accurate information about individual layers can be obtained.
(FR)
L'invention concerne un système de mesure optique qui permet d'évaluer des échantillons constitués de couches minces empilées. Le système comprend un ellipsomètre de référence et un ou plusieurs dispositifs de mesure optique sans contact. L'ellipsomètre de référence est utilisé pour étalonner les autres dispositifs de mesure. Une fois l'étalonnage réalisé, le système peut être utilisé pour analyser des couches minces empilées. Il donne notamment une mesure qui peut être utilisée pour déterminer l'épaisseur optique totale de la pile. En associant cette information aux mesures faites par les autres dispositifs de mesure optique, on obtient des informations plus précises sur les différentes couches.
Également publié en tant que
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