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1. WO1999001887 - APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA

Numéro de publication WO/1999/001887
Date de publication 14.01.1999
N° de la demande internationale PCT/GB1998/001769
Date du dépôt international 06.07.1998
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 01.02.1999
CIB
H01J 37/32 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
CPC
H01J 37/32
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
H01J 37/321
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
321the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
H01J 37/32174
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
Déposants
  • SURFACE TECHNOLOGY SYSTEMS LIMITED [GB]/[GB] (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, JP, KR, LU, MC, NL, PT, SE)
  • LEA, Leslie, Michael [GB]/[GB] (UsOnly)
  • GUIBARRA, Edward [GB]/[GB] (UsOnly)
Inventeurs
  • LEA, Leslie, Michael
  • GUIBARRA, Edward
Mandataires
  • GWYNNE, James, Michael, John
Données relatives à la priorité
9714142.805.07.1997GB
Langue de publication Anglais (en)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
Abrégé
(EN) Plasma processing apparatus frequently incorporates an antenna fed from a power supply and in this invention a power supply feeds a conventional matching circuit (10), which in turn is connected to the primary (11) of a transformer (12). The antenna (15) is coupled across the secondary winding (13) of the transformer (12) and that winding is tapped to ground at (16). This creates a virtual earth (17) near the mid point of the antenna (15) significantly reducing the variation, along the length of the antenna, in the power supplied to the plasma.
(FR) Les appareils de traitement au plasma incorporent souvent une antenne alimentée par une source de puissance. Dans la présente invention, une source de puissance alimente un circuit d'adaptation classique (10) lui-même relié au primaire (11) d'un transformateur (12). L'antenne (15) est couplée aux bornes de l'enroulement secondaire (13) du transformateur (12) et cet enroulement est mis en dérivation à la terre au niveau de l'élément 16. On obtient ainsi une mise à la terre virtuelle (17) à proximité de la prise médiane de l'antenne (15), ce qui réduit, sur toute la longueur de celle-ci, la variation de la puissance apportée au plasma.
Documents de brevet associés
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