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1. WO1997043481 - APPRET RESISTANT AUX SALISSURES

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[ JA ]

請 求 の範囲

1. (A) (I)フルォロアルキル基を含有する単量体から誘導された構 成単位、

(II)フッ素を含まない単量体から誘導された構成単位、

(III)塩化ビニルから誘導された構成単位、および

(IV)架橋性単量体から誘導された構成単位

を有するフルォロアルキル基含有共重合体、ならびに

(B) フッ素を含まないアクリル系共重合体

からなることを特徴とする防汚加工剤。

2. 構成単位(I)を形成する単量体は、一般式:

Rf-Rl-OCOC(R2)=CH2

[式中、 Rfは 3〜20個の炭素原子をもつ直鎖状または分岐状のパーフ ノレォロアルキル基、

R 1は 1〜 20個の炭素原子をもつ直鎖状または分岐状のアルキレン基、 一 S02N(R3)R4—基または一 CH2CH(OR5)CH2—基(但し、 R3

1〜10個の炭素原子をもつアルキル基、 R4は 1〜10個の炭素原子を もつ直鎖状または分岐状のアルキレン基、 R5は水素原子または 1~10 個の炭素原子をもつァシル基である。)、

R2は水素原子またはメチル基である。 ]

で示されるものである請求の範囲第 1項記載の防汚加工剤。

3. 構成単位(I I)を形成する単量体が一般式:

CH2=C A^OOA2

[式中、 A1は水素原子またはメチル基、 A2は CnH2n + 1(n= 1〜30)で 示されるアルキル基]

で表わされるァクリレート類である請求の範囲第 1項記載の防汚加工剤。

4. 共重合体(B)は、少なくとも 2種のフッ素を含まない(メタ)ァク リル系単量体から誘導され、フッ素を含まない(メタ)アクリル系単量体 は、一般式:

CH2=CX1COOX2

[式中、 X1は水素原子またはメチル基、

X2は直鎖または分岐 C„H2n + 1基 (π=1〜5)である。 ]

で示されるものである請求の範囲第 1項記載の防汚加工剤。

5. 共重合体(Α)に対して、構成単位(I)の量が 30〜90重量%、構 成単位(I 1)の量が4〜60重量%、構成単位(I I 1)の量が5〜50重 量%、構成単位(I V)の量が 0.1〜10重量%である請求の範囲第 1項 記載の防汚加工剤。

6. 共重合体(Α)と共重合体(Β)が水を主体とする媒体中に分散した水 性分散液形態にある請求の範囲第 1項記載の防汚加工剤。

7. 共重合体(Α)と共重合体(Β)がノニオン性および/またはァニオン 性の乳化剤により水を主体とする媒体中に分散した水性分散液形態にある 請求の範囲第 1項記載の防汚加工剤。