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1. WO1997042647 - CONFIGURATIONS D'ALIMENTATIONS EN COURANT CONTINU PULSE POUR LA GENERATION DE PLASMAS

Numéro de publication WO/1997/042647
Date de publication 13.11.1997
N° de la demande internationale PCT/US1997/007815
Date du dépôt international 06.05.1997
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 04.12.1997
CIB
H01J 37/32 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
H05H 1/46 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24Production du plasma
46utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p.ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes
CPC
H01J 37/32045
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32018Glow discharge
32045Circuits specially adapted for controlling the glow discharge
H05H 1/46
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
46using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Déposants
  • ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC. [US]/[US] (AllExceptUS)
  • SCHOLL, Richard, A. [US]/[US] (UsOnly)
  • CHRISTIE, David, J. [US]/[US] (UsOnly)
Inventeurs
  • SCHOLL, Richard, A.
  • CHRISTIE, David, J.
Mandataires
  • SANTANGELO, Luke
Données relatives à la priorité
08/646,61608.05.1996US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) PULSED DIRECT CURRENT POWER SUPPLY CONFIGURATIONS FOR GENERATING PLASMAS
(FR) CONFIGURATIONS D'ALIMENTATIONS EN COURANT CONTINU PULSE POUR LA GENERATION DE PLASMAS
Abrégé
(EN)
Various embodiments of a power supply are disclosed for generating plasmas. Current controlled power sources are disclosed that are capable of generating currents in low resistance, high temperature plasmas that are regulated to prevent the generation of excessive currents in the plasma. Current reversing switches (48, 50, 52, 54) are provided that control the flow of a direct current in a plasma chamber (42) between various electrodes (44, 46). A single current controlled power source capable of providing a substantially constant direct current can be utilized with various switch configurations to provide current that is delivered through three or more electrodes in a plasma chamber. Multiple power sources are also provided in association with shunt switches for delivering a plurality of sources of direct current in various directions between electrodes in a plasma chamber. In another embodiment of the present invention, inductive impedance (304, 306, 308) can be provided in switch paths to cause a source of direct current to flow through a plasma chamber in various directions between electrodes. The use of multiple electrodes (382, 384, 386, 388) in association with a single voltage controlled power source (362) is also disclosed.
(FR)
L'invention se rapporte à diverses réalisations d'une alimentation en courant pour la génération de plasmas et comprend des sources d'alimentation commandées en courant qui sont capables de générer des courants dans des plasmas à faible résistance et haute température, régulés de façon à empêcher la génération de courants excessifs dans le plasma; des inverseurs de courant (48, 50, 52, 54) qui régulent l'écoulement d'un courant continu dans une chambre de plasma (42) entre diverses électrodes (44, 46); une source d'alimentation unique commandée en courant capable de fournir un courant continu pratiquement constant pouvant être utilisé avec différentes configurations de commutateurs pour générer le courant qui est acheminé par au moins trois électrodes dans une chambre de plasma; plusieurs sources d'alimentation associées à des commutateurs de dérivation et servant à acheminer une pluralité de sources de courant continu dans diverses directions entre les électrodes de la chambre de plasma. Selon une autre réalisation, une impédance inductive (304, 306, 308) peut être créée dans les voies de commutation pour faire écouler une source de courant continu dans une chambre de plasma dans diverses directions entre les électrodes. L'invention se rapporte également à l'utilisation de plusieurs électrodes (382, 384, 386, 388) en association avec une source d'alimentation unique commandée en tension (362).
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