(EN) A method for plasma processing includes using a relatively high magnetic field and a relatively high pressure to create a first plasma region adjacent a window of a processing chamber having a lower radiation absorption and a second plasma region adjacent a substrate holder having a higher radiation absorption. Accordingly, a cooler plasma region is created adjacent the window to prevent contaminants from being etched from the window and adjacent chamber surface, and hotter plasma region is created adjacent the substrate to increase the processing rate. Additionally, the relatively high pressure of the processing gas, preferably greater than about 10 Torr and more preferably greater than about 100 Torr, increases the density of the plasma thereby increasing the processing rate. Alternatively, a high magnetic field and a high pressure create a radiation absorption region which is on the order of centimeters thick, for example 5-10 centimeters thick. Preferably, a uniform magnetic field creates uniform absorption in the absorption region.
(FR) Procédé de traitement au plasma qui consiste à utiliser un champ magnétique relativement puissant et une pression relativement élevée pour créer une première région de plasma adjacente à la fenêtre d'une chambre de traitement à faible absorption du rayonnement et une seconde région de plasma adjacente à un support de substrat à absorption plus élevée du rayonnement. En conséquence, une région de plasma plus froide est créée à proximité de la fenêtre de façon à empêcher des contaminants d'être détachés de la surface de la fenêtre et de la chambre adjacente, et une région de plasma plus chaude est créée à proximité du substrat pour augmenter la vitesse de traitement. De plus, la pression relativement élevée du gaz de traitement, de préférence supérieure à 10 Torr de plus grande préférence encore supérieure à 100 Torr, augmente la densité du plasma, accélérant ainsi la vitesse de traitement. Alternativement, un champ magnétique puissant et une haute pression créent une région d'absorption du rayonnement dont l'épaisseur est de l'ordre de plusieurs centimètres, par exemple 5 à 10 centimètres. De préférence, un champ magnétique uniforme crée une absorption uniforme dans la région d'absorption.