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1. WO1991015810 - MATERIAU DE RESERVE ET PROCEDE D'UTILISATION

Numéro de publication WO/1991/015810
Date de publication 17.10.1991
N° de la demande internationale PCT/US1991/001977
Date du dépôt international 28.03.1991
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 10.10.1991
CIB
G03F 7/039 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
039Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
CPC
G03F 7/039
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
Déposants
  • E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY [US]/[US]
  • AT & T BELL LABORATORIES [US]/[US]
Inventeurs
  • HERTLER, Walter, Raymond
  • SOGAH, Dotsevi, Yao
  • TAYLOR, Gary, Newton
Mandataires
  • SIEGELL, Barbara, C.
Données relatives à la priorité
507,34210.04.1990US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) RESIST MATERIAL AND PROCESS FOR USE
(FR) MATERIAU DE RESERVE ET PROCEDE D'UTILISATION
Abrégé
(EN)
Excellent resolution and sensitivity in the patterning of resists utilized in device and mask manufacture is obtained with a specific composition. In particular this composition involves polymers having recurring pendant acid labile $g(a)-alkoxyalkyl carboxylic acid ester moieties in the presence of an acid generator activated by actinic radiation such as UV-visible, deep ultraviolet, e-beam and x-ray radiation.
(FR)
Une composition spécifique permet d'obtenir une résolution et une sensibilité excellentes dans la configuration de matériaux de réserve utilisés dans la fabrication de masques et de dispositifs. Cette composition comprend en particulier des polymères ayant des fractions dépendantes et récurrentes d'ester d'acide $g(a)-alcoxyalkyle carboxylique labiles à l'acide en présence d'un générateur d'acide activé par la radiation actinique telle que les radiations utraviolettes visibles, ultraviolettes lointaines, à faisceau d'électrons et à rayons X.
Également publié en tant que
KR1019980709481
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