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1. (WO1991009346) COMPOSITION DE PHOTORESERVE POSITIVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1991/009346    N° de la demande internationale :    PCT/JP1990/001659
Date de publication : 27.06.1991 Date de dépôt international : 20.12.1990
CIB :
G03F 7/022 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 541 (JP) (Tous Sauf US).
UETANI, Yasunori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKANISHI, Hirotoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : UETANI, Yasunori; (JP).
NAKANISHI, Hirotoshi; (JP)
Mandataire : AOYAMA, Tamotsu; Aoyama & Partners, IMP Building, 3-7, Shiromi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 540 (JP)
Données relatives à la priorité :
1/331995 20.12.1989 JP
Titre (EN) POSITIVE RESIST COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE PHOTORESERVE POSITIVE
Abrégé : front page image
(EN)A positive resist composition comprising an alkali-soluble resin, a quinone diazide compound and a specified hydroxylic compound can improve the sensitivity without detriment to the thermal resistance and the residual film rate.
(FR)L'invention se rapporte à une composition de photoréserve positive, qui comprend une résine soluble en milieu alcalin, un composé de diazide de quinone et un composé hydroxylique spécifié et qui a la propriété d'améliorer la sensibilité sans nuire à la résistance thermique et au taux de formation de film résiduel.
États désignés : CA, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LU, NL, SE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)