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1. (WO1991004512) RESINES DE LIAISON SELECTIONNEES D'UN COPOLYMERE NOVOLAQUE EN MASSE ET LEURS UTILISATION DANS DES COMPOSITIONS SENSIBLES AUX RAYONNEMENTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1991/004512    N° de la demande internationale :    PCT/US1990/004307
Date de publication : 04.04.1991 Date de dépôt international : 02.08.1990
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.03.1991    
CIB :
G03F 7/023 (2006.01)
Déposants : OCG MICROELECTRONIC MATERIALS, INC. [US/US]; 350 Knotter Drive, Cheshire, CT 06410-0586 (US)
Inventeurs : JEFFRIES, Alfred, J.; (US).
HONDA, Kenji; (US).
BLAKENEY, Andrew, J.; (US).
TADROS, Sobhy; (US)
Mandataire : SIMONS, W., A.; OCG Microelectronic Materials, Inc., 350 Knotter Drive, Cheshire, CT 06410-0586 (US)
Données relatives à la priorité :
404,139 07.09.1989 US
Titre (EN) SELECTED BLOCK COPOLYMER NOVOLAK BINDER RESINS AND THEIR USE IN RADIATION-SENSITIVE COMPOSITIONS
(FR) RESINES DE LIAISON SELECTIONNEES D'UN COPOLYMERE NOVOLAQUE EN MASSE ET LEURS UTILISATION DANS DES COMPOSITIONS SENSIBLES AUX RAYONNEMENTS
Abrégé : front page image
(EN)A block copolymer novolak resin composition comprising at least one unit of the reaction product of an alkali-soluble phenolic polymer and a reactive ortho, ortho bonded oligomer having formula (I) wherein x is from 2 to 7; wherein R is selected from hydrogen a lower alkyl group or lower alkoxy group having 1-4 carbon atoms and a halogen group; and Y1 is either a hydroxyl group; an alkoxy group or a halogen group; and Y is hydrogen, alkyl, alkoxy, halogen, hydroxyl, -CH2OH, -CH2- halogen, or -CH2-alkoxy group, which is useful in radiation sensitive compositions and coated products with o-quinone diazide compound wherein after radiation imaging and subsequent development, a positive resist image is obtained.
(FR)Une composition de résine copolymère novolaque en masse comprend au moins une unité du produit de réaction d'un polymère phénolique soluble dans l'alcali et un ortho-oligomère réactif ou un oligomère lié ortho réactif ayant la formule (I) où x varie de 2 à 7; où R est choisi entre de l'hydrogène, un groupe d'alkyle inférieur ou un groupe d'alkoxy inférieur ayant de 1 à 4 atomes de carbone et un groupe halogène; et Y1 est soit un groupe hydroxyle; un groupe alkoxy ou un groupe halogène; et Y2 est de l'hydrogène, de l'alkyle, de l'alkoxy, de l'halogène, de l'hydroxyle, du -CH2OH, du -CH2- halogène, ou du -CH2- groupe alkoxy. Ceci est utile pour les compositions sensibles aux rayonnements et aux produits revêtus d'une couche d'un composé de o-quinone diazide pour lesquels on obtient une image à réserve positive après un traitement par le rayonnement et un développement ultérieur.
États désignés : AU, BB, BG, BR, CA, DK, FI, HU, JP, KP, KR, LK, MC, MG, MW, NO, RO, SD, SU.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, IT, LU, NL, SE)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CM, GA, ML, MR, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)