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1. WO1989005800 - NOUVEAUX COMPOSES D'ACIDE BARBITURIQUE, AGENTS PHOTORESISTANTS OBTENUS A PARTIR DE CEUX-CI ET PROCEDE DE PREPARATION

Numéro de publication WO/1989/005800
Date de publication 29.06.1989
N° de la demande internationale PCT/US1987/003430
Date du dépôt international 23.12.1987
CIB
C07D 239/545 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
DCOMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
239Composés hétérocycliques contenant des cycles diazine-1, 3 ou diazine-1, 3 hydrogéné
02non condensés avec d'autres cycles
24comportant au moins trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
28avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, liés directement aux atomes de carbone du cycle
46Plusieurs atomes d'oxygène, de soufre ou d'azote
52Deux atomes d'oxygène
54liés par une liaison double ou sous forme de radicaux hydroxyle non substitués
545avec d'autres hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, liés directement aux atomes de carbone du cycle
G03F 7/016 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
016Sels de diazonium ou leurs composés
CPC
C07D 239/545
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
239Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
02not condensed with other rings
24having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
28with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
46Two or more oxygen, sulfur or nitrogen atoms
52Two oxygen atoms
54as doubly bound oxygen atoms or as unsubstituted hydroxy radicals
545with other hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
G03F 7/0163
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
016Diazonium salts or compounds
0163Non ionic diazonium compounds, e.g. diazosulphonates; Precursors thereof, e.g. triazenes
Déposants
  • HOECHST CELANESE CORPORATION [US]/[US]
Inventeurs
  • HOPF, Frederick, Robert
  • MCFARLAND, Michael, James
Mandataires
  • ROBERTS, Richard, S.
Données relatives à la priorité
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) NOVEL BARBITURIC ACID COMPOUNDS, PHOTORESISTS THEREFROM AND METHOD FOR PREPARATION
(FR) NOUVEAUX COMPOSES D'ACIDE BARBITURIQUE, AGENTS PHOTORESISTANTS OBTENUS A PARTIR DE CEUX-CI ET PROCEDE DE PREPARATION
Abrégé
(EN)
Disclosed are substituted derivatives of 5-diazobarbituric acid selected from those having formulas (I) and (II), wherein R1 and R2 are substituents selected from the group consisting of C3 to C12 alkyl, cyclohexyl, benzyl and C2 to C6 aralkyl groups, wherein R3 and R4 are substituents selected from the group consisting of C1 to C12 alkyl, cyclohexyl, benzyl or other C2 to C6 aralkyl groups and R5 is selected from the group consisting of $g(a), $g(v)-disubstituted C2 to C12 alkyl, methylene dicyclohexyl, or C1 to C6 dialkylphenylene. These compounds provide DUV response with an absorption maximum near 260 nm. The substituents are chosen to be nonabsorbing alkyl groups that allow efficient photobleaching of the sensitizer during exposure. The sensitizers of the present invention are designed to function in the DUV region and are useful in the manufacture of semi-conductor devices.
(FR)
Sont décrits des dérivés d'acide 5-diazobarbiturique choisis parmi ceux ayant la formule (I) dans laquelle R1 et R2 sont des substituants choisis dans le groupe composé d'alkyle comportant 3 à 12C, de cyclohexyle, de benzyle et de groupes d'aralkyle comportant 2 à 6C; et la formule (II) dans laquelle R3 et R4 sont des substituants choisis dans le groupe composé d'alkyle comportant 1 à 12C, de cyclohexyle, de benzyle ou d'autres groupes d'aralkyle comprenant 2 à 6C; R5 est choisi dans le groupe composé d'alkyle comportant 2 à 12C à disubstitution $g(a), $g(v), du méthylène, du dicyclohexyle, ou du dialkylphénylène comportant 1 à 6C. Ces composés assurent une réaction aux DUV (ultraviolets profonds) avec une absorption maximum proche de 260 nm. On chosit les substituants pour qu'ils soient des groupes alkyles non absorbants, permettant le photoblanchiment du sensibilisateur pendant l'exposition. Les sensibilisateurs de la présente invention sont conçus pour fonctionner dans la région des DUV et sont utiles dans la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs.
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