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1. WO1988003963 - COMPOSITION GRANULAIRE SECHE POUR LE POLISSAGE DE METAUX FERREUX ET METHODE DE POLISSAGE DE TELS METAUX

Numéro de publication WO/1988/003963
Date de publication 02.06.1988
N° de la demande internationale PCT/US1987/003093
Date du dépôt international 20.11.1987
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 28.06.1988
CIB
B24B 31/14 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24MEULAGE; POLISSAGE
BMACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
31Machines ou dispositifs pour polir ou travailler par abrasion des surfaces "au tonneau", ou au moyen d'autres appareils, dans lesquels les pièces à travailler ou les produits abrasifs sont libres; Accessoires à cet effet
12Accessoires; Équipement de protection ou dispositifs de sécurité; Installations pour l'extraction des poussières ou l'absorption du bruit spécialement adaptées aux machines couvertes par le groupe B24B31/159
14Corps abrasifs spécialement conçus pour le travail au tonneau, p.ex. billes abrasives
C09K 3/14 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
09COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
KSUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3Substances non couvertes ailleurs
14Substances antidérapantes; Abrasifs
C23F 3/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
FENLÈVEMENT NON MÉCANIQUE DE MATÉRIAU MÉTALLIQUE DES SURFACES; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; MOYENS POUR EMPÊCHER L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL; PROCÉDÉS À ÉTAPES MULTIPLES POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES UTILISANT AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT PAR LA CLASSE C23 ET AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C21D, SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C22F, SOIT PAR LA CLASSE C25308
3Brillantage des métaux par des moyens chimiques
C25D 5/36 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
25PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
DPROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
5Dépôt électrochimique caractérisé par le procédé; Prétraitement ou post-traitement des pièces
34Prétraitement des surfaces métalliques à revêtir de métaux par voie électrolytique
36de fer ou d'acier
CPC
B24B 31/14
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING
31Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
12Accessories; Protective equipment or safety devices; Installations for exhaustion of dust or for sound absorption specially adapted for machines covered by group B24B31/00
14Abrading-bodies specially designed for tumbling apparatus, e.g. abrading-balls
C09K 3/1454
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
3Materials not provided for elsewhere
14Anti-slip materials; Abrasives
1454Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
C23F 3/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE
3Brightening metals by chemical means
C25D 5/36
CCHEMISTRY; METALLURGY
25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
5Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
34Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
36of iron or steel
Déposants
  • CHEMIMETALS PROCESSING, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • SHERMAN, Peter, G. (deceased)
Mandataires
  • McCONNELL, Daniel, E.
Données relatives à la priorité
934,46924.11.1986US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) DRY GRANULAR COMPOSITION FOR, AND METHOD OF, POLISHING FERROUS COMPOSITIONS
(FR) COMPOSITION GRANULAIRE SECHE POUR LE POLISSAGE DE METAUX FERREUX ET METHODE DE POLISSAGE DE TELS METAUX
Abrégé
(EN)
Compositions and methods of using the compositions in preparing ferrous metal components for subsequent surface electroplating by preparing a solution containing an acid and a sequestering agent, immersing the components and abrading media in the solution, and agitating the components and the abrading media while maintaining the components and the media immersed in the solution. The compositions are dry granular compositions. Specific formulations are set out in detail. Generally, each composition has, by defined weight percents, oxalic acid; a phosphorus sequestering agent; the ratio by weight of oxalic acid to sequestering agent being in a range of from about 1.2:1 to about 0.4:1; a quantity of an ammonifying agent sufficient and effective for adjusting the pH of the solution formed on dissolving the composition in water to about 3.5; a quantity of a surfactant sufficient and effective for accomplishing wetting of the composition; and a quantity of a carrier material which may be a granular absorbent sufficient to make up the remainder of the composition.
(FR)
Compositions et procédés d'utilisation de compositions pour la préparation de composants métalliques ferreux en vue de leur traitement de surface par électrodéposition consistant à préparer une solution contenant un acide et un agent séquestrant, à immerger les composants métalliques et un milieu abrasif dans la solution, et à agiter les composants métalliques et le milieu abrasif tout en les maintenant en immersion dans la solution. Les compositions sont des compositions granulaires sèches. Des formulations spécifiques sont exposées en détail. De façon générale, chaque composition contient, en pourcentages pondéraux définis, de l'acide oxalique, un agent séquestrant phosphoré, le rapport pondéral d'acide oxalique séquestrant étant dans la gamme d'environ 1,2/1 à environ 0,4/1; une quantité d'un agent ammoniacal suffisante pour ajuster le pH de la solution formée par dissolution de la composition dans l'eau à environ 3,5; une quantité d'un agent tensio-actif suffisant pour le mouillage de la composition; et une quantité d'un matériau de support, qui peut être un absorbant granulaire, suffisante pour maintenir en suspension le reste de la composition.
Également publié en tant que
FI884658
NO19883242
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