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1. (WO1986005321) PROCEDE DE FABRICATION DE CIRCUITS INTEGRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1986/005321    N° de la demande internationale :    PCT/SE1986/000091
Date de publication : 12.09.1986 Date de dépôt international : 04.03.1986
CIB :
H01L 21/285 (2006.01), H01L 21/336 (2006.01), H01L 21/768 (2006.01), H01L 29/45 (2006.01)
Déposants : STIFTELSEN INSTITUTET FÖR MIKROVA^oGSTEKNIK VID TE [SE/SE]; KNISKA HÖGSKOLAN I STOCKHOLM;, Box 70033;, S-100 44 Stockholm (SE) (Tous Sauf US).
NORSTRÖM, Hans [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
PETERSSON, Sture [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
BUCHTA, Rudolf [SE/SE]; (SE) (US Seulement)
Inventeurs : NORSTRÖM, Hans; (SE).
PETERSSON, Sture; (SE).
BUCHTA, Rudolf; (SE)
Mandataire : ÖRTENBLAD, Bertil; Noréns Patentbyra^o AB, Banérgatan 73, S-115 26 Stockholm (SE)
Données relatives à la priorité :
8501122-9 07.03.1985 SE
Titre (EN) A METHOD IN THE MANUFACTURE OF INTEGRATED CIRCUITS
(FR) PROCEDE DE FABRICATION DE CIRCUITS INTEGRES
Abrégé : front page image
(EN)A method for manufacturing integrated circuits in which conductors and gate structures are built-up on a substrate plate, the conductors incorporating a layer of polycrystalline silicon and the gate structures including a gate electrode of polycrystalline silicon, where each of the gate structures is surrounded by doped source-and-drain-areas and where the gate electrode and the source-and-drain-areas respectively are metallized by depositing thereon a metal which reacts with the silicon from which the gate electrode and the source-and-drain-areas are comprised, so as to form a silicide layer. In accordance with the invention the gate electrode (3) is metallized in a first process stage. The source-and-drain-areas (18, 19) are metallized in a later process stage. Subsequent to metallizing the gate electrode in the first process stage, a protective layer (5) is applied to the metallized layer (4) of the gate electrode in a second process stage. All layers (16, 13, 7) present on the source-and-drain-areas (18, 19) are then removed to expose silicon, whereafter a metal (8) capable of reacting with the exposed silicon is deposited over the substrate, therewith to metallize (9, 10) the source-and-drain-areas (18, 19). In the second process stage, the protective layer (5) is given a thickness such that subsequent to the aforementioned etching process there remains a given, smallest thickness sufficient to ensure that the deposited metal (8) will not react with the silicon of the gate electrode (3, 4).
(FR)Dans un procédé de fabrication de circuits intégrés, les conducteurs et les structures de porte sont rapportés sur une plaque de support, les conducteurs incorporant une couche de silicium polycristallin et des structures de porte comprenant une électrode de porte en silicium polycristallin, chacune des structures de porte étant entourée par des zones dopées de source-et-drain, l'électrode de porte et les zones de source-et-drain étant respectivement métallisées en y déposant un métal qui réagit avec le silicium constituant l'électrode de porte et les zones de source-et-drain, de manière à former une couche de siliciure. Selon l'invention, l'électrode de porte (3) est métallisée dans une première étape du procédé. Les zones de source-et-drain (18, 19) sont métallisées au cours d'une seconde étape du procédé. Suite à la première étape de métallisation de l'électrode de porte, on applique une couche de protection (5) sur la couche métallisée (4) de l'électrode de porte au cours d'une seconde étape du procédé. Toutes les couches (16, 13, 7) se trouvant sur les zones de source-et-drain (18, 19) sont ensuite enlevées pour exposer le silicium, après quoi un métal (8) capable de réagir avec le silicium exposé est déposé sur le substrat, pour métalliser (9, 10) les zones de source-et-drain (18,19). Dans la seconde étape du procédé, on donne à la couche protéctrice (5) une épaisseur telle, qu'après le procédé susmentionné de décapage, l'épaisseur restante plus petite est suffisante pour s'assurer que le métal déposé (8) ne réagira pas avec le silicium de l'électrode de porte (3, 4).
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, DE, FR, GB, IT, NL).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)