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1. (WO1981001474) PROCEDE ET APPAREIL DE FABRICATION DE ROULEAUX A DESSINS CONTINUS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1981/001474    N° de la demande internationale :    PCT/EP1980/000126
Date de publication : 28.05.1981 Date de dépôt international : 04.11.1980
CIB :
G03F 7/18 (2006.01), G03F 7/24 (2006.01)
Déposants :
Inventeurs :
Données relatives à la priorité :
7908327 14.11.1979 NL
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING CONTINUOUS DESIGN ROLLERS
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE FABRICATION DE ROULEAUX A DESSINS CONTINUS
Abrégé : front page image
(EN)Method for manufacturing seamless design rollers, which method is carried out on the outer surface of a vertically positioned cylindrical core (1), -which core comprises an outside covering of elastomeric material and, if desired, an adhesion promoting layer-; the method comprises the uniform coating of said surface with a layer of liquid photopolymer said layer being simultaneously evenly exposed by a source (8) of UV-radiation, so effecting a partial curing of the freshly deposited layer, which prevents a sagging of the photopolymer, during which coating process the cylindrical core and the UV-exposure source (8) perform a relative rotation. Subsequently a second step of UV-curing is carried out by means of a patternwise exposure of the respective layer, with a mask being the negative of the desired pattern, whereupon the exposed layer is developed and dried, so that a relief image of the desired shape is left.
(FR)Le procede de fabrication de rouleaux a dessins sans couture s"effectue sur la surface externe d"un noyau cylindrique positionne verticalement (1), lequel noyau comprend un enrobage exterieur d"un materiau elastomere et, eventuellement, une couche contribuant a l"adhesion; le procede consiste a appliquer un revetement uniforme sur ladite surface avec une couche d"un photopolymere liquide, ladite couche etant exposee uniformement et simultanement a une source (8) de rayons UV, effectuant ainsi une polymerisation partielle de la couche fraichement deposee, ce qui empeche l"affaissement du photopolymere; pendant le procede de revetement, le noyau cylindrique et la source d"exposition de rayons UV (8) effectuent une rotation relative. Ensuite, une seconde etape de polymerisation aux UV est effectuee par exposition a dessin de la couche respective, un masque constituant le negatif du dessin desire, sur quoi la couche exposee est developpee et sechee de maniere a laisser une image en relief ayant la forme desiree.
États désignés :
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)