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1. (WO1980001321) PHOTORESERVE A PELLICULE SECHE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/1980/001321    N° de la demande internationale :    PCT/SU1979/000131
Date de publication : 26.06.1980 Date de dépôt international : 14.12.1979
CIB :
G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/34 (2006.01), H05K 3/00 (2006.01)
Déposants :
Inventeurs :
Données relatives à la priorité :
2695701 25.12.1978 SU
Titre (EN) DRY FILM PHOTORESIST
(FR) PHOTORESERVE A PELLICULE SECHE
Abrégé : front page image
(EN)A dry film photoresist consists of a two-layer base, containing a hard polymer sublayer 15-100 micromicrons thick and an intermediate polymer layer 3-15 micromicrons transparent for ultraviolet radiation in a band of 300-400 nm, a photosensitive layer4-20 micromicrons thick and a protective polymer film 5-50 micromicrons thick. All the four said layers are bound together by adhesive forces, the adhesive force of the protective polymer film to the photosensitive layer being less than the cohesive strength of the photosensitive layer, the adhesive force of the hard polymer sublayer to the intermediate polymer layer being less than the adhesive force of the intermediate polymer layer to the photosensitive layer and each of the three mentioned layers having its adhesive force less than its cohesive strength.
(FR)Une photoreserve a pellicule seche consiste en une base a deux couches contenant une sous-couche d"un polymere dur d"une epaisseur de 15-100 micromicrons et une couche d"un polymere intermediaire d"une epaisseur de 3-15 micromicrons transparente aux rayons ultra-violets dans une bande de 300-400 nm, une couche photosensible d"une epaisseur de 4-20 micromicrons et une pellicule d"un polymere de protection d"une epaisseur de 5-50 micromicrons. Ces quatre couches sont liees ensemble par des forces adhesives, la force adhesive de la pellicule de polymere de protection sur la couche photosensible etant inferieure a la resistance de cohesion de la couche photosensible, la force adhesive de la sous-couche de polymere dur sur la couche de polymere intermediaire etant inferieure a la force adhesive de la couche de polymere intermediaire sur la couche photosensible et chacune des trois couches mentionnees ayant une force adhesive inferieure a sa resistance de cohesion.
États désignés :
Langue de publication : russe (RU)
Langue de dépôt : russe (RU)