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1. US20060124454 - Anode used for electroplating

Office
États-Unis d'Amérique
Numéro de la demande 10540232
Date de la demande 23.12.2003
Numéro de publication 20060124454
Date de publication 15.06.2006
Numéro de délivrance 07943032
Date de délivrance 17.05.2011
Type de publication B2
CIB
C25D 17/12
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
25PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
DPROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
17Éléments structurels, ou leurs assemblages, des cellules pour revêtement électrolytique
10Electrodes
12Forme ou configuration
C25D 5/00
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
25PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
DPROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
5Dépôt électrochimique caractérisé par le procédé; Prétraitement ou post-traitement des pièces
C25D 17/10
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
25PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
DPROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
17Éléments structurels, ou leurs assemblages, des cellules pour revêtement électrolytique
10Electrodes
Déposants Metakem Gesellschaft fur Schichtchemie der Metalle mbH
M.P.C. Micropulse Plating Concepts
Inventeurs Wurm Jorg
Menard Stephane
Mandataires Swanson & Bratschun, L.L.C.
Données relatives à la priorité 10261493 23.12.2002 DE
Titre
(EN) Anode used for electroplating
Abrégé
(EN)

The present invention relates to an anode for electroplating, which has an anode base and a shield and is characterized in that additive degradation is reduced when it is used in electroplating.