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1. US20160249442 - Plasma-based light source

Office
États-Unis d'Amérique
Numéro de la demande 14838594
Date de la demande 28.08.2015
Numéro de publication 20160249442
Date de publication 25.08.2016
Numéro de délivrance 10034362
Date de délivrance 24.07.2018
Type de publication B2
CIB
H05G 2/00
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
GTECHNIQUE DES RAYONS X
2Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma
G03F 7/20
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
H05G 2/003
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
003being produced from a liquid or gas
H05G 2/008
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
008involving a beam of energy, e.g. laser or electron beam in the process of exciting the plasma
Déposants KLA-Tencor Corporation
Inventeurs Alexey Kuritsyn
Alexander Bykanov
Michael Kanouff
Oleg Khodykin
Mandataires Suiter Swantz pc llo
Titre
(EN) Plasma-based light source
Abrégé
(EN)

The present disclosure is directed to plasma-based light sources. Systems and methods are described for protecting components of the light source from plasma generated debris which can include target material gas, atomic vapor, high energy ions, neutrals, micro-particles, and contaminants. Particular embodiments include arrangements for reducing the adverse effects of plasma generated ions and neutrals on light source components while simultaneously reducing in-band light attenuation due to target material gas and vapor.

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