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Paramétrages

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1. KR1020050085863 - ANODE USED FOR ELECTROPLATING

Office
République de Corée
Numéro de la demande 1020057011715
Date de la demande 21.06.2005
Numéro de publication 1020050085863
Date de publication 29.08.2005
Numéro de délivrance 1010770000000
Date de délivrance 26.10.2011
Type de publication B1
CIB
C25D 17/10
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
25PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
DPROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
17Éléments structurels, ou leurs assemblages, des cellules pour revêtement électrolytique
10Electrodes
Déposants METAKEM GESELLSCHAFTFUR SCHICHTCHEMIE DER METALLE MBH
M.P.C. MICROPULSE PLATING CONCEPTS
메타켐 게젤샤프트 퓌어 쉬흐트헤미 데어 메탈레 엠베하
엠.피.씨. 마이크로펄스 플레이팅 콘셉츠
Inventeurs WURM JORG
부름, 요르크
MENARD STEPHANE
메나드, 슈테판
Mandataires 권혁록
이정순
Données relatives à la priorité 10261493 23.12.2002 DE
Titre
(EN) ANODE USED FOR ELECTROPLATING
(KO) 전기도금용 애노드
Abrégé
(EN)

The invention relates to an anode which is used for electroplating and comprises a basic member and a shield. Said anode is characterized by the fact that additive decomposition is reduced during use thereof in an electroplating process.

© KIPO & WIPO 2007

(KO)
본 발명은 전기 도금용 애노드에 관한 것이고, 기초 소재 및 쉴드를 포함한다. 상기 애노드는 전기 도금 공정에서 애노드가 사용되는 동안 추가적인 분해가 감소된다는 점에 특징을 가진다.