Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. KR1020170094382 - 플라즈마 기반의 광원

Office
République de Corée
Numéro de la demande 1020177019222
Date de la demande 15.12.2015
Numéro de publication 1020170094382
Date de publication 17.08.2017
Type de publication A
CIB
H05G 2/00
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
GTECHNIQUE DES RAYONS X
2Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma
G03F 7/20
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
H05G 2/003
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
003being produced from a liquid or gas
G03F 7/70
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
H05G 2/008
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
008involving a beam of energy, e.g. laser or electron beam in the process of exciting the plasma
Déposants 케이엘에이-텐코 코포레이션
Inventeurs 쿠리찐 알렉세이
비카노브 알렉산더
카노우프 마이클
코디킨 올레그
Mandataires 김태홍
김진회
Données relatives à la priorité 14838594 28.08.2015 US
62/092,684 16.12.2014 US
Titre
(KO) 플라즈마 기반의 광원
Abrégé
(KO)
본 개시내용은 플라즈마 기반의 광원에 관한 것이다. 타겟 재료 가스, 원자 증기, 고에너지 이온, 중성 물질, 미세 입자, 및 오염 물질을 포함할 수 있는 플라즈마 생성 데브리로부터 광원의 컴포넌트를 보호하기 위한 시스템 및 방법이 설명된다. 특정한 실시형태는, 광원 컴포넌트에 대한 플라즈마 생성 이온 및 중성 물질의 악영향을 감소시키기 위한, 동시에, 타겟 재료 가스 및 증기로 인한 대역 내 광 감쇠를 감소시키기 위한 배치(arrangement)를 포함한다.

Également publié en tant que