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1. JP2020081981 - プラズマを用いた処理装置及びその処理装置を用いて水素発生材料を製造する製造方法

Office Japon
Numéro de la demande 2018221328
Date de la demande 27.11.2018
Numéro de publication 2020081981
Date de publication 04.06.2020
Type de publication A
CIB
B01J 19/08
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
JPROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE OU CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
19Procédés chimiques, physiques ou physico-chimiques en général; Appareils appropriés
08Procédés utilisant l'application directe de l'énergie ondulatoire ou électrique, ou un rayonnement particulaire; Appareils à cet usage
C01B 3/06
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
01CHIMIE INORGANIQUE
BÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
3Hydrogène; Mélanges gazeux contenant de l'hydrogène; Séparation de l'hydrogène à partir de mélanges en contenant; Purification de l'hydrogène
02Production d'hydrogène ou de mélanges gazeux contenant de l'hydrogène
06par réaction de composés inorganiques comportant un hydrogène lié électropositivement, p.ex. de l'eau, des acides, des bases, de l'ammoniac, avec des agents réducteurs inorganiques
C01B 6/04
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
01CHIMIE INORGANIQUE
BÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
6Hydrures de métaux; Monoborane ou diborane; Leurs complexes d'addition
04Hydrures des métaux alcalins, des métaux alcalino-terreux, du béryllium ou du magnésium; Leurs complexes d'addition
H05H 1/46
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24Production du plasma
46utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p.ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes
Déposants 株式会社エスイー
Inventeurs 滝沢 力
白根 崇
森元 峯夫
坂本 雄一
Mandataires 坂本 智弘
Titre
(JA) プラズマを用いた処理装置及びその処理装置を用いて水素発生材料を製造する製造方法
Abrégé
(JA)

【課題】例えば、水素化マグネシウムを含む水素発生材料を比較的低温なプロセスで製造するのに適したプラズマを用いた処理装置を提供する。
【解決手段】本発明のプラズマを用いた処理装置10は、原料にプラズマを照射する処理室11と、プラズマ中に原料を浮遊状態で供給する原料供給部12と、プラズマ化して原料に反応させる反応性ガスを供給するガス供給部13と、プラズマを生成させるためのマイクロ波を供給するマイクロ波供給部14と、処理室11に導入するマイクロ波を通す誘電体の窓15と、を備え、マイクロ波供給部14は、少なくとも窓15を通して処理室11内に供給されるマイクロ波のマイクロ波電力のピーク値が2.0キロワット以上となるマイクロ波を発生する。
【選択図】図1

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