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Paramétrages

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1. JP2002531729 - 下水浄化法

Office
Japon
Numéro de la demande 2000585505
Date de la demande 05.11.1999
Numéro de publication 2002531729
Date de publication 24.09.2002
Type de publication A
CIB
E03D 9/02
ECONSTRUCTIONS FIXES
03ADDUCTION D'EAU; ÉVACUATION DES EAUX
DWATER-CLOSETS OU URINOIRS AVEC SYSTÈME DE CHASSE D'EAU; CLAPETS DE CHASSE À CET EFFET
9Accessoires sanitaires ou autres pour toilettes
02Dispositifs ajoutant à l'eau, pendant la chasse, ou dans le réservoir, un produit désinfectant, désodorisant ou de nettoyage
C02F 1/58
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
02TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
FTRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
58par élimination de composés spécifiés dissous
CPC
C02F 1/5245
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
52by flocculation or precipitation of suspended impurities
5236using inorganic agents
5245using basic salts, e.g. of aluminium and iron
C02F 2103/005
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
2103Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
005Black water originating from toilets
Y10S 4/09
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
4Baths, closets, sinks, and spittoons
09Methods
Y10S 210/906
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
210Liquid purification or separation
902Materials removed
906Phosphorus containing
Déposants ケミラ、ケミ、アクチボラグ
Inventeurs ラース、イールベルグ
Mandataires 吉武 賢次
永井 浩之
岡田 淳平
名塚 聡
森 秀行
勝沼 宏仁
Données relatives à la priorité 9803927 18.11.1998 SE
Titre
(JA) 下水浄化法
Abrégé