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Es wird eine Plasmaanlage mit einer induktiv gekoppelten Hochfrequenz-Plasmastrahlquelle (5) mit einem einen Plasmaerzeugungsraum (27) begrenzenden Brennerkörper (25) mit einer Austrittsöffnung (26) für den Plasmastrahl (20), einer den Plasmaerzeugungsraum (27) bereichsweise umgebenden Spule (17), einer Zuführung (10) zur Zufuhr eines Gases und/oder Precursor-Materials in den Plasmaerzeugungsraum (27) und einem mit der Spule (17) in Verbindung stehenden Hochfrequenzgenerator (16) zur Zündung des Plasmas (21) und Einkoppelung einer elektrischen Leistung in das Plasma (21) vorgeschlagen. Daneben weist die Plasmastrahlquelle (5) ein elektrisches Bauteil auf, mit dem die Intensität des Plasmastrahles (20) zeitlich periodisch veränderbar ist. Weiter ein Verfahren zur Erzeugung der Funktionsbeschichtung auf einem Substrat (19) mit der Plasmaanlage vorgeschlagen.
A plasma unit with an inductively-coupled, high-frequency plasma beam source (5), comprising a burner body (25), defining a plasma generation chamber (27), an outlet opening (26) for the plasma beam (20), a coil (17) partly surrounding the plasma generation chamber (27), an inlet (10), for introduction of a gas or and/or precursor material into the plasma generation chamber (27) and a high frequency generator (16), connected to said coil (17), for initiating the plasma and injecting an electrical power into the plasma (21) is disclosed. The plasma beam source (5) further comprises an electrical component, by means of which the intensity of the plasma beam (20) may be intermittently altered in a periodic manner. The invention further relates to a method for the generation of a functional coating on a substrate (19) by means of the plasma unit.