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1. (CN1910013) Production method for pattern-worked porous molding or nonwoven fabric, and electric circuit components

Office : Chine
Numéro de la demande : 200580002459.4 Date de la demande : 13.01.2005
Numéro de publication : 1910013 Date de publication : 07.02.2007
Numéro de délivrance : 1910013 Date de délivrance : 22.05.2013
Type de publication : B
Demande PCT antérieure: Numéro de la demande: PCTJP2005000623; Numéro de publication: 2005068134 Cliquez pour voir les données
CIB :
B24C 1/04
C23C 18/16
H05K 3/10
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24
MEULAGE; POLISSAGE
C
TRAITEMENT AU JET ABRASIF OU JET ANALOGUE, AVEC DES MATÉRIAUX EN PARTICULES
1
Méthodes d'utilisation de jet abrasif en vue d'effectuer un travail déterminé; Utilisation d'équipements auxiliaires liés à ces méthodes
04
pour travailler uniquement certaines parties déterminées, p.ex. pour graver la pierre ou le verre
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
18
Revêtement chimique par décomposition soit de composés liquides, soit de solutions des composés constituant le revêtement, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement; Dépôt par contact
16
par réduction ou par substitution, p.ex. dépôt sans courant électrique
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
10
dans lesquels le matériau conducteur est appliqué au support isolant de manière à former le parcours conducteur recherché
CPC :
B24C 3/322
B24C 1/04
B24C 11/00
C23C 18/1605
C23C 18/1644
C23C 18/1651
C23C 18/1653
C23C 18/30
H05K 1/0284
H05K 3/107
H05K 3/182
H05K 3/184
H05K 2201/0116
H05K 2201/015
H05K 2201/0209
H05K 2201/0293
H05K 2201/09036
H05K 2201/09118
H05K 2203/025
H05K 2203/0565
Y10T 428/24479
Y10T 428/24496
Y10T 428/24612
Y10T 428/249953
Y10T 428/249987
Y10T 442/674
Déposants : Sumitomo Electric Industries
住友电气工业株式会社
Inventeurs : Hayashi Fumihiro
林文弘
Masuda Yasuhito
增田泰人
Okuda Yasuhiro
奥田泰弘
Mandataires : wang dan wei xiaogang
北京市柳沈律师事务所 11105
北京市柳沈律师事务所 11105
Données relatives à la priorité : 2004007043 14.01.2004 JP
Titre : (EN) Production method for pattern-worked porous molding or nonwoven fabric, and electric circuit components
(ZH) 构图的多孔模制氟树脂产品或无纺织物的制造方法
Abrégé : front page image
(EN) An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a porous material in which complicated and fine through portions, recessed portions, and the like have been patterned. It is to provide a patterned porous molded product or nonwoven fabric, in which a plated layer has been selectively formed on the surfaces of the through portions and the recessed portions. With the invention, a mask having through portions in a pattern is placed on at least one side of the porous molded product or the nonwoven fabric. A fluid or a fluid containing abrasive grains is sprayed from above the mask, thereby to form through portions or recessed portions, or both of them, to which the opening shape of each through portion of the mask has been transferred, in the porous molded product or the nonwoven fabric. The invention provides a porous molded product or a nonwoven fabric in which a plated layer has been selectively formed on the surfaces of the through portions or the recessed portions, or both of these, an electric circuit component, or the like.
(ZH)

本发明的目标是提供制造多孔材料的方法,其中已经构图了复杂而精细的穿透部分、凹进部分等。其提供了构图的多孔模制产品或无纺织物,其中在穿透部分和凹进部分的表面上选择地形成了镀层。就本发明而言,具有成图案的穿透部分的掩模设置在多孔模制产品或无纺织物的至少一侧上。流体或含有磨粒的流体从掩模上方喷射,从而在多孔模制产品或无纺织物上形成穿透部分、凹进部分或二者,由掩模上的每个穿透部分的开口的形状转移到穿透部分、凹进部分或二者。本发明提供在穿透部分、凹进部分或二者的表面上选择地形成镀层的多孔模制产品或无纺织物、电路元件等。


Also published as:
KR1020060126693EP1707315JP2005200693US20070160810CA2551397WO/2005/068134