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1. (WO2019044479) FLUORINE-CONTAINING ETHER COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING ETHER COMPOSITION, COATING SOLUTION, ARTICLE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
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Nº de publicación: WO/2019/044479 Nº de la solicitud internacional: PCT/JP2018/030223
Fecha de publicación: 07.03.2019 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 13.08.2018
CIP:
C08G 65/336 (2006.01) ,C09D 171/02 (2006.01) ,C09K 3/18 (2006.01)
C QUIMICA; METALURGIA
08
COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES
G
COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES DISTINTAS A AQUELLAS EN LAS QUE INTERVIENEN SOLAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO
65
Compuestos macromoleculares obtenidos por reacciones que forman un enlace éter en la cadena principal de la macromolécula
02
a partir de éteres cíclicos por rotura del ciclo heterocíclico
32
Polímeros modificados por posterior tratamiento químico
329
con compuestos orgánicos
336
que contiene silicio
C QUIMICA; METALURGIA
09
COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES; ADHESIVOS; COMPOSICIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE LOS MATERIALES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR
D
COMPOSICIONES DE REVESTIMIENTO, p. ej. PINTURAS, BARNICES, LACAS; EMPLASTES; PRODUCTOS QUIMICOS PARA LEVANTAR LA PINTURA O LA TINTA; TINTAS; CORRECTORES LIQUIDOS; COLORANTES PARA MADERA; PRODUCTOS SOLIDOS O PASTOSOS PARA ILUMINACION O IMPRESION; EMPLEO DE MATERIALES PARA ESTE EFECTO
171
Composiciones de revestimiento a base de poliéteres obtenidos por reacciones que forman un enlace éter en la cadena principal; Composiciones de revestimiento a base de derivados de tales polímeros
02
Oxidos de polialquileno
C QUIMICA; METALURGIA
09
COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES; ADHESIVOS; COMPOSICIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE LOS MATERIALES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR
K
SUSTANCIAS PARA APLICACIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE SUSTANCIAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR
3
Sustancias no cubiertas en otro lugar
18
para aplicarlas sobre las superficies para disminuir la adherencia del hielo, niebla o del agua; Sustancias antihielo o que provocan el deshielo para aplicación sobre superficies
Solicitantes:
AGC株式会社 AGC INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目5番1号 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
Personas inventoras:
宇野 誠人 UNO Makoto; JP
山本 弘賢 YAMAMOTO Hiromasa; JP
星野 泰輝 HOSHINO Taiki; JP
松浦 啓吾 MATSUURA Keigo; JP
安樂 英一郎 ANRAKU Eiichiro; JP
Mandataria/o:
泉名 謙治 SENMYO Kenji; JP
小川 利春 OGAWA Toshiharu; JP
金 鎭文 KIM Jin-Moon; JP
比企野 健 HIKINO Ken; JP
横井 大一郎 YOKOI Daiichiro; JP
Datos de prioridad:
2017-16799931.08.2017JP
Título (EN) FLUORINE-CONTAINING ETHER COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING ETHER COMPOSITION, COATING SOLUTION, ARTICLE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPOSÉ ÉTHER CONTENANT DU FLUOR, COMPOSITION D'ÉTHER CONTENANT DU FLUOR, SOLUTION DE REVÊTEMENT, ARTICLE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ
(JA) 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法
Resumen:
(EN) Provided are a fluorine-containing ether compound, a fluorine-containing ether composition, and a coating solution capable of forming a surface layer having excellent initial water and oil repellency, fingerprint removability, abrasion resistance, light resistance, and chemical resistance, as well as an article having the surface layer and a method for producing the same. A fluorine-containing ether compound represented by A-O-(Rf1O)m-Q1(R1)b. Where, A is a C1-20 perfluoroalkyl group, Rf1 is a perfluoroalkylene group, m is an integer of 2-500, (Rf1O)m may comprise Rf1O having two different numbers of carbon atoms, Q1 is a (b + 1)-valent perfluorohydrocarbon group optionally having a hydroxyl group, R1 is a monovalent organic group having at least one hydrolyzable silyl group, b is an integer of 2 or higher, and the b-number of R1 may be the same or different.
(FR) La présente invention concerne un composé éther contenant du fluor, une composition d'éther contenant du fluor, et une solution de revêtement apte à former une couche de surface excellente en termes de propriétés hydrofuges et oléofuges, d'aptitude à l'élimination d'empreintes digitales, de résistance à l'abrasion, de résistance à la lumière et de résistance chimique initiales, ainsi qu'un article comportant ladite couche de surface et un procédé de production associé. Un composé éther contenant du fluor est représenté par A-O-(Rf1O)m-Q1(R1)b. Dans la formule, A est un groupe perfluoroalkyle en C1-20, Rf1 est un groupe perfluoroalkylène, m est un nombre entier compris entre 2 et 500, (Rf1O)m peut comprendre Rf1O ayant deux nombres différents d'atomes de carbone, Q1 est un groupe perfluorohydrocarboné de valence (b + 1) ayant facultativement un groupe hydroxyle, R1 est un groupe organique monovalent ayant au moins un groupe silyle hydrolysable, b est un nombre entier supérieur ou égal à 2, et le nombre b de R1 peut être identique ou différent.
(JA) 初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、表面層を有する物品およびその製造方法の提供。 A-O-(Rf1O)-Q(Rで表される含フッ素エーテル化合物。ただし、Aは炭素数1~20のペルフルオロアルキル基であり、Rf1はペルフルオロアルキレン基であり、mは2~500の整数であり、(Rf1O)は炭素数の異なる2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、Qは水酸基を有していてもよい(b+1)価のペルフルオロ炭化水素基であり、Rは少なくとも1個の加水分解性シリル基を有する1価の有機基であり、bは、2以上の整数であり、b個のRは、同一であっても異なっていてもよい。
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organización Regional Africana de la Propiedad Intelectual (ORAPI) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Organización Eurasiática de Patentes (OEAP) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Japonés (JA)
Idioma de la solicitud: Japonés (JA)