Parte del contenido de esta aplicación no está disponible en este momento.
Si esta situación persiste, contáctenos aComentarios y contacto
1. (WO2018224927) MEMRISTIVE STRUCTUE
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional    Formular observación

Nº de publicación: WO/2018/224927 Nº de la solicitud internacional: PCT/IB2018/053936
Fecha de publicación: 13.12.2018 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 01.06.2018
CIP:
H01L 27/12 (2006.01)
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
27
Dispositivos que consisten en una pluralidad de componentes semiconductores o de otros componentes de estado sólido formados en o sobre un sustrato común
02
incluyendo componentes semiconductores especialmente adaptados para rectificación, amplificación, generación de oscilaciones, conmutación y teniendo al menos una barrera de potencial o una barrera de superficie.; incluyendo elementos de circuito pasivos integrados con al menos una barrera de potencial o una barrera de superficie
12
el sustrato es diferente de un cuerpo semiconductor, p. ej. un cuerpo aislante
Solicitantes:
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road Armonk, New York 10504, US
IBM UNITED KINGDOM LIMITED [GB/GB]; PO Box 41, North Harbour Portsmouth Hampshire PO6 3AU, GB (MG)
IBM (CHINA) INVESTMENT COMPANY LIMITED [CN/CN]; 25/F, Pangu Plaza No.27, Central North 4th Ring Road, Chaoyang District, Beijing 100101, CN (MG)
Personas inventoras:
BREW, Kevin; US
NEWNS, Dennis; US
KIM, Seyoung; US
GERSHON, Talia, Simcha; US
TODOROV, Teodor, Krassimirov; US
Mandataria/o:
LITHERLAND, David; GB
Datos de prioridad:
15/616,32007.06.2017US
Título (EN) MEMRISTIVE STRUCTUE
(FR) STRUCTURE MEMRISTIVE
Resumen:
(EN) A method of fabricating a memristive structure for symmetric modulation between resistance states is presented. The method includes forming a first electrode and a second electrode over an insulating substrate, forming an anode contacting the first and second electrodes, forming an ionic conductor over the anode, forming a cathode of the same material as the anode over the ionic conductor, forming a third electrode over the cathode, and enabling bidirectional transport of ions between the anode and cathode resulting in a resistance adjustment of the memristive structure, the anode and the cathode being formed from metastable mixed conducting materials with ion concentration dependent conductivity.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'une structure memristive de modulation symétrique entre des états de résistance. Le procédé consiste à former une première électrode et une deuxième électrode sur un substrat isolant, à former une anode en contact avec les première et deuxième électrodes, à former un conducteur ionique sur l'anode, à former une cathode du même matériau que l'anode sur le conducteur ionique, à former une troisième électrode sur la cathode, et à permettre un transport bidirectionnel d'ions entre l'anode et la cathode, ce qui entraîne un ajustement de résistance de la structure memristive, l'anode et la cathode étant formées à partir de matériaux conducteurs mélangés métastables ayant une conductivité dépendant de la concentration ionique.
front page image
Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Inglés (EN)
Idioma de la solicitud: Inglés (EN)