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1. (WO2017144277) SUBSTRATE HANDLING SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
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Nº de publicación: WO/2017/144277 Nº de la solicitud internacional: PCT/EP2017/052806
Fecha de publicación: 31.08.2017 Fecha de presentación de la solicitud internacional: 09.02.2017
CIP:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/677 (2006.01)
G FISICA
03
FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA
F
PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO
7
Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto
20
Exposición; Aparellaje a este efecto
H ELECTRICIDAD
01
ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS
L
DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR
21
Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas
67
Aparatos especialmente adaptados para el manejo de dispositivos semiconductores o eléctricos de estado sólido durante su fabricación o tratamiento; Aparatos especialmente adaptados para el manejo de obleas durante la fabricación o tratamiento de dispositivos o componentes semiconductores o eléctricos de estado sólido
677
para el transporte, p. ej. entre diferentes estaciones de trabajo
Solicitantes:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Personas inventoras:
VERVOORDELDONK, Michael, Johannes; NL
LOF, Joeri; NL
Mandataria/o:
RAS, Michael; NL
Datos de prioridad:
16157034.624.02.2016EP
Título (EN) SUBSTRATE HANDLING SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) SYSTÈME DE MANIPULATION DE SUBSTRAT ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Resumen:
(EN) There is provided a substrate handling system (200) for handling a substrate (W), comprising a holder (202), a rotation device (206) and a mover (204). The holder is for holding the substrate. The rotation device is for rotating the holder around an axis (208) perpendicular to a plane. The mover is for moving the holder along a path in the plane relative to the axis. Further, there is provided a lithographic apparatus comprising the substrate handling system. The substrate handling system may comprise a coupling device (210) arranged to couple the holder to one of the mover and the rotation device in a first situation. The coupling device may be arranged to decouple the holder from the one of the mover and the rotation device in a second situation.
(FR) La présente invention concerne un système de manipulation de substrat (200) pour traiter un substrat (W), comprenant un support (202), un dispositif de rotation (206) et un moyen de déplacement (204). Le support est destiné à maintenir le substrat. Le dispositif de rotation est destiné à faire tourner le support autour d'un axe (208) perpendiculairement à un plan. Le moyen de déplacement est destiné à déplacer le support le long d'un chemin dans le plan par rapport à l'axe. En outre, il est prévu un appareil lithographique comprenant le système de manipulation de substrat. Le système de manipulation de substrat peut comprendre un dispositif de couplage (210) agencé pour coupler le support à l'un du moyen de déplacement et du dispositif de rotation dans une première situation. Le dispositif de couplage peut être agencé pour découper le support de l'un du moyen de déplacement et du dispositif de rotation dans une seconde situation.
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Estados designados: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Oficina Eurasiática de Patentes (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Oficina Europea de Patentes (OEP) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organización Africana de la Propiedad Intelectual (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Idioma de publicación: Inglés (EN)
Idioma de la solicitud: Inglés (EN)