Procesando

Espere un momento...

Configuración

Configuración

1. WO1997017311 - PROCESS FOR PRODUCING FLUORENE OR ITS DERIVATIVES

N.º de publicación WO/1997/017311
Fecha de publicación 15.05.1997
Nº de la solicitud internacional PCT/JP1996/003232
Fecha de presentación internacional 05.11.1996
Se presentó la solicitud en virtud del Capítulo II 11.03.1997
CIP
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
5
Preparación de hidrocarburos a partir de hidrocarburos que contienen igual número de átomos de carbono
32
por deshidrogenación con formación de hidrógeno libre
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
41
Preparación de éteres; Preparación de compuestos que tienengrupos,grupos ogrupos
01
Preparación de éteres
18
por reacciones que no forman enlaces en el oxígeno de la función éter
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
43
Eteres; Compuestos que tienengrupos,grupos ogrupos
02
Eteres
20
estando un enlace del oxígeno de la función éter en un átomo de carbono de un ciclo aromático de seis miembros
21
conteniendo ciclos distintos a los ciclos aromáticos de seis miembros
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
45
Preparación de compuestos que tienen gruposCO unidos únicamente a átomos de carbono o hidrógeno; Preparación de los quelatos de estos compuestos
27
por oxidación
32
con oxígeno molecular
33
de restos CHx-
34
en compuestos insaturados
36
en compuestos que contienen ciclos aromáticos de seis miembros
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
49
Cetonas; Cetenas; Dímeros de cetena; Quelatos de cetona
587
Compuestos insaturados que tienen un grupo cetona formando parte de un ciclo
657
conteniendo ciclos aromáticos de seis miembros
665
formando parte un grupo cetona de un sistema cíclico condensado
675
teniendo tres ciclos
C QUIMICA; METALURGIA
07
QUIMICA ORGANICA
C
COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS
49
Cetonas; Cetenas; Dímeros de cetena; Quelatos de cetona
587
Compuestos insaturados que tienen un grupo cetona formando parte de un ciclo
753
conteniendo grupos éter,grupos,grupos,grupos
755
formando parte un grupo cetona de un sistema cíclico condensado de dos o tres ciclos, siendo al menos uno de los ciclos un ciclo aromático de seis miembros
C07C 5/32 (2006.01)
C07C 41/18 (2006.01)
C07C 43/21 (2006.01)
C07C 45/36 (2006.01)
C07C 49/675 (2006.01)
C07C 49/755 (2006.01)
CPC
C07C 2523/44
C07C 2603/18
C07C 41/18
C07C 45/36
C07C 49/675
C07C 49/755
Solicitantes
  • NIPPON SHOKUBAI CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Koraibashi 4-chome Chuo-ku Osaka-shi Osaka 541, JP (AllExceptUS)
  • SAITO, Noboru [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • IIDA, Toshiya [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • MAEDA, Isamu [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventores
  • SAITO, Noboru; JP
  • IIDA, Toshiya; JP
  • MAEDA, Isamu; JP
Mandatarios
  • HAGINO, Taira ; Eikoh Patent Office ARK Mori Building, 28th floor 12-32, Akasaka 1-chome Minato-ku Tokyo 107, JP
Datos de prioridad
7/28854507.11.1995JP
Idioma de publicación Japonés (JA)
Idioma de solicitud Japonés (JA)
Estados designados
Título
(EN) PROCESS FOR PRODUCING FLUORENE OR ITS DERIVATIVES
(FR) PROCESSUS DE PRODUCTION DE FLUORENE OU DE SES DERIVES
Resumen
(EN)
A process for efficiently and industrially advantageously producing fluorene or its derivatives represented by general formula (II) via the gas-phase intra-molecular dehydrocyclization of aromatic compounds represented by general formula (I) as an inexpensive material. It is expected that the fluorene or its derivatives are usable as starting materials for producing heat-resistant epoxy resins, polycarbonates and polyesters, wherein R1 and R2 represent each hydrogen, methyl or ethyl, or R1 and R2 together represent =O; and R and R' represent each hydrogen, C1-4 alkyl or C1-4 alkoxy.
(FR)
Cette invention concerne un processus avantageux et efficace permettant de produire en grandes quantités du fluorène, ou ses dérivés, correspondant à la formule générale (II). Ce processus fait appel à la déhydrocyclisation intramoléculaire en phase gazeuse d'un matériau peu coûteux consistant en des composés aromatiques qui correspondent à la formule générale (I). Dans ces deux formules, R1 et R2 représentent chacun hydrogène, méthyle ou éthyle, ou encore, R1 et R2 représentent ensemble =O, tandis que R et R' représentent chacun hydrogène, alkyle C1-4 ou alcoxy C1-4. Le fluorène ou ses dérivés ainsi obtenus peuvent être utilisés en qualité de matières de départ dans la production de résines époxy, de polycarbonates et de polyesters résistant à la chaleur.
También publicado como
Datos bibliográficos más recientes de la Oficina Internacional