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1. (WO2019066428) OPTICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD
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公布号: WO/2019/066428 国际申请号: PCT/KR2018/011304
公布日: 04.04.2019 国际申请日: 21.09.2018
国际专利分类:
G02F 1/1337 (2006.01) ,G02F 1/1333 (2006.01)
G PHYSICS
02
光学
F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
1
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
1333
构造上的设备
1337
液晶分子的表面诱导取向,例如借助列向层
G PHYSICS
02
光学
F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
1
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
1333
构造上的设备
申请人:
주식회사 엘지화학 LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 서울시 영등포구 여의대로 128 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 07336, KR
发明人:
유정선 YOU, Jung Sun; KR
고동호 KO, Dong Ho; KR
이효진 LEE, Hyo Jin; KR
문인주 MUN, In Ju; KR
김남규 KIM, Nam Gyu; KR
이현준 LEE, Hyun Jun; KR
代理人:
특허법인 다나 DANA PATENT LAW FIRM; 서울시 강남구 역삼로 3길 11 광성빌딩 신관 5층 5th Floor, New Wing, Gwangsung Bldg., 11, Yeoksam-ro 3-gil, Gangnam-gu, Seoul 06242, KR
优先权数据:
10-2017-012782529.09.2017KR
标题 (EN) OPTICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF OPTIQUE
(KO) 광학 디바이스의 제조 방법
摘要:
(EN) The present application relates to an optical device manufacturing method and an optical device. The present application provides a manufacturing method enabling the minimization or possibly the elimination of dotting stains which may occur when an optical device is manufactured by means of a dotting process. Such method, according to the present application, may provide an alignment film exhibiting enhanced alignment properties by improving dotting stains, especially in the presence of a big cell gap or even when high-temperature annealing is impossible as a result of a polymer substrate being applied as a substrate.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication de dispositif optique et un dispositif optique. La présente invention concerne un procédé de fabrication permettant la minimisation ou l'élimination de taches pointillage qui peuvent se produire lorsqu'un dispositif optique est fabriqué au moyen d'un processus de pointillage. Un tel procédé, selon la présente invention, peut fournir un film d'alignement présentant des propriétés d'alignement améliorées en améliorant les taches de pointillage, en particulier en présence d'un grand espace de cellules ou même lorsqu'un recuit à haute température est impossible suite à l'application d'un substrat polymère en tant que substrat.
(KO) 본 출원은 광학 디바이스의 제조 방법 및 광학 디바이스에 대한 것이다. 본 출원에서는, 닷팅 공정에 의해 광학 디바이스를 제작하는 경우에 발생할 수 있는 닷팅 얼룩을 최소화하거나, 혹은 없앨 수 있는 제조 방법이 제공된다. 이러한 본 출원의 방법은, 특히 큰 셀갭을 가지거나, 기판으로서 고분자 기판이 적용되어 고온 열처리가 불가능한 경우에도 상기 닷팅 얼룩을 개선하여 배향성이 향상된 배향막을 제공할 수 있다.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 韩语 (KO)
申请语言: 韩语 (KO)