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1. (WO2019066087) VAPOR DEPOSITION DEVICE, DEVICE FOR MANUFACTURING ORGANIC EL PANEL, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL PANEL
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公布号: WO/2019/066087 国际申请号: PCT/JP2018/037100
公布日: 04.04.2019 国际申请日: 03.10.2018
国际专利分类:
C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/04 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C
金属材料的表面处理
14
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
22
以镀覆工艺为特征的
24
真空蒸发
C 化学;冶金
23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C
金属材料的表面处理
14
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
04
局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
27
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
28
包括使用有机材料作为有源部分,或使用有机材料与其他材料的组合作为有源部分的组件
32
具有专门适用于光发射的组件,例如使用有机发光二极管的平板显示器
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
51
使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
50
专门适用于光发射的,如有机发光二极管 (OLED)或聚合物发光器件(PLED)
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
B
电热;其他类目不包含的电照明
33
电致发光光源
10
专门适用于制造电致发光光源的设备或方法
申请人:
株式会社ブイ・テクノロジー V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市保土ヶ谷区神戸町134番地 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005, JP
国立大学法人東北大学 TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 宮城県仙台市青葉区片平二丁目1番1号 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577, JP
发明人:
水村 通伸 MIZUMURA Michinobu; JP
後藤 哲也 GOTO Tetsuya; JP
代理人:
特許業務法人 英知国際特許事務所 EICHI PATENT & TRADEMARK CORP.; 東京都文京区千石4丁目45番13号 45-13, Sengoku 4-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1120011, JP
优先权数据:
2017-18437326.09.2017JP
标题 (EN) VAPOR DEPOSITION DEVICE, DEVICE FOR MANUFACTURING ORGANIC EL PANEL, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL PANEL
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, ET DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN PANNEAU ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) 蒸着装置、有機ELパネルの製造装置、有機ELパネルの製造方法
摘要:
(EN) Provided is a vapor deposition device enabling a vapor deposition source to be arranged in proximity to a vapor deposition mask or a substrate to improve directionality of a molecular flux of a film formation material, thereby increasing accuracy of a film formation pattern. The vapor deposition device is provided with: a vapor deposition tank holding therein a substrate having a film formation surface with which a deposition mask is in close contact; and a vapor deposition source arranged in the vapor deposition tank and emitting a film formation material toward the vapor deposition mask. The vapor deposition source includes: a container accommodating the film formation material and having an opening facing the vapor deposition mask; a heating device for heating the film formation material in the container; and an ultrasonic transducer for applying ultrasonic vibrations to the film formation material in the container.
(FR) L'invention concerne un dispositif de dépôt en phase vapeur permettant d'agencer une source de dépôt en phase vapeur à proximité d'un masque de dépôt en phase vapeur ou d'un substrat pour améliorer la capacité d'orientation d'un flux moléculaire d'un matériau de formation de film, afin d'accroître la précision d'un motif de formation de film. Le dispositif de dépôt en phase vapeur comprend : un réservoir de dépôt en phase vapeur contenant un substrat comportant une surface de formation de film avec laquelle un masque de dépôt est en contact étroit ; et une source de dépôt en phase vapeur, agencée dans le réservoir de dépôt en phase vapeur et émettant un matériau de formation de film en direction du masque de dépôt en phase vapeur. La source de dépôt en phase vapeur comprend : un récipient recevant le matériau de formation de film et qui comporte une ouverture faisant face au masque de dépôt en phase vapeur ; un dispositif chauffant pour chauffer le matériau de formation de film dans le récipient ; et un transducteur ultrasonore pour appliquer des vibrations ultrasonores au matériau de formation de film dans le récipient.
(JA) 蒸着装置において、蒸着源を蒸着マスクや基板に近接配置させることを可能にし、成膜材料の分子流束の指向性を改善することで、成膜パターンの精度を向上させる。蒸着装置は、蒸着マスクが被成膜面に密着された基板を内部に保持する蒸着槽と、蒸着槽内に配置され、蒸着マスクに向けて成膜材料を放射する蒸着源とを備え、蒸着源は、成膜材料が収容されると共に蒸着マスクに向けた開口を有する容器と、容器内の成膜材料を加熱する加熱装置と、容器内の成膜材料に超音波振動を与える超音波振動子を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)