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1. (WO2019064530) ELECTRON BEAM APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE METHOD, AND PHOTOELECTRIC ELEMENT
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2019/064530 国际申请号: PCT/JP2017/035598
公布日: 04.04.2019 国际申请日: 29.09.2017
国际专利分类:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/073 (2006.01)
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
027
未在H01L 21/18或H01L 21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
20
曝光及其设备
H 电学
01
基本电气元件
J
放电管或放电灯
37
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
02
零部件
04
电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置,如电子光学装置,离子光学装置
06
电子源;电子枪
073
应用场致发射、光电发射或二次电子发射源的电子枪
申请人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
发明人:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
代理人:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
优先权数据:
标题 (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE METHOD, AND PHOTOELECTRIC ELEMENT
(FR) APPAREIL À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET ÉLÉMENT PHOTOÉLECTRIQUE
(JA) 電子ビーム装置、デバイス製造方法、露光方法及び光電素子
摘要:
(EN) An electron beam apparatus comprises: a plurality of light emitting units (84a); and an electron beam optical system that makes electrons into a plurality of electron beams (EB) and can bombard a target therewith, said electrons being emitted from a photoelectric conversion layer (60) by the photoelectric conversion layer (60) being irradiated with a plurality of light beams (LB) due to the light emission of the plurality of light emitting units, wherein the lights from each of the plurality of light emitting units are incident on the photoelectric conversion layer (60) without passing through a space.
(FR) Cette invention concerne un appareil à faisceau électronique, comprenant : une pluralité d'unités d'émission de lumière (84a) ; et un système optique à faisceau électronique qui forme des électrons en une pluralité de faisceaux électroniques (EB) et peut bombarder une cible avec ceux-ci, lesdits électrons étant émis à partir d'une couche de conversion photoélectrique (60) sous l'effet de l'irradiation de couche de conversion photoélectrique (60) par une pluralité de faisceaux lumineux (LB) provenant de l'émission de lumière de la pluralité d'unités d'émission de lumière, la lumière provenant de chacune de la pluralité d'unités d'émission de lumière étant incidente sur la couche de conversion photoélectrique (60) sans passer à travers un espace.
(JA) 電子ビーム装置は、複数の発光部(84a)と、複数の発光部の発光により複数の光ビーム(LB)が光電変換層(60)に照射されることによって光電変換層(60)から放出される電子を複数の電子ビーム(EB)としてターゲットに照射可能な電子ビーム光学系と、を備え、複数の発光部それぞれからの光は、空間を介さずに光電変換層(60)に入射する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)