此应用程序的某些内容目前无法使用。
如果这种情况持续存在,请联系我们反馈与联系
1. (WO2019064528) TRANSFER-TYPE PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING PROTECTIVE FILM, METHOD FOR PRODUCING FORCE SENSOR, AND FORCE SENSOR
国际局存档的最新著录项目数据    提交意见

公布号: WO/2019/064528 国际申请号: PCT/JP2017/035593
公布日: 04.04.2019 国际申请日: 29.09.2017
国际专利分类:
G01L 1/22 (2006.01) ,G01L 5/00 (2006.01) ,G06F 3/041 (2006.01)
G PHYSICS
01
用于测量的传感器,如敏感元件
L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
1
力或应力的一般计量
20
通过测量固体材料或导电流体欧姆电阻变化;应用动力电池,即施加应力后会产生或改变其电位的液体电池
22
利用电阻应变仪
G PHYSICS
01
用于测量的传感器,如敏感元件
L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
5
适用于特殊目的的,用来测量诸如由冲击产生的力、功、机械功率或转矩的装置或方法
G PHYSICS
06
计算;推算;计数
F
电数字数据处理
3
用于将所要处理的数据转变成为计算机能够处理的形式的输入装置;用于将数据从处理机传送到输出设备的输出装置,例如,接口装置
01
用于用户和计算机之间交互的输入装置或输入和输出组合装置
03
将部件的位置或位移转换成为代码形式的装置
041
以转换方式为特点的数字转换器,例如,触摸屏或触摸垫,特点在于转换方法
申请人:
日立化成株式会社 HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606, JP
发明人:
渡邊 匠 WATANABE Takumi; JP
安部 攻治 ABE Koji; JP
鮎ヶ瀬 友洋 AYUGASE Tomohiro; JP
南 征志 MINAMI Masashi; JP
向 郁夫 MUKAI Ikuo; JP
代理人:
長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki; JP
清水 義憲 SHIMIZU Yoshinori; JP
平野 裕之 HIRANO Hiroyuki; JP
优先权数据:
标题 (EN) TRANSFER-TYPE PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING PROTECTIVE FILM, METHOD FOR PRODUCING FORCE SENSOR, AND FORCE SENSOR
(FR) FILM PHOTOSENSIBLE DE TYPE TRANSFERT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM PROTECTEUR, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CAPTEUR DE FORCE, ET CAPTEUR DE FORCE
(JA) 転写型感光性フィルム、保護膜の形成方法、フォースセンサの製造方法及びフォースセンサ
摘要:
(EN) A transfer-type photosensitive film which is provided with: a supporting film; and a photosensitive resin layer which is provided on the supporting film and contains a binder polymer, a photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated group and a photopolymerization initiator. This transfer-type photosensitive film is configured such that: the binder polymer has an acid value of 110 mgKOH/g or more; and the SP value of the photopolymerizable compound as determined by Fedors' estimation method is 20.5 (MJ/m3)1/2 or more. This transfer-type photosensitive film is used for the formation of a protective film for a substrate that is provided with an electrode containing a copper-nickel alloy.
(FR) L’invention concerne un film photosensible de type transfert étant pourvu : d'un film de support ; et d'une couche de résine photosensible qui est disposée sur le film de support et contient un polymère liant, un composé photopolymérisable ayant un groupe éthyléniquement insaturé et un initiateur de photopolymérisation. Ce film photosensible de type transfert est configuré de telle sorte que : le polymère liant ait une valeur acide de 110 mg de KOH/g ou plus ; et la valeur SP du composé photopolymérisable telle que déterminée par le procédé d'estimation de Fedors soit de 20,5 (MJ/m3)1/2 ou plus. Ce film photosensible de type transfert est utilisé pour la formation d'un film protecteur pour un substrat qui est pourvu d'une électrode contenant un alliage cuivre-nickel.
(JA) 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた、バインダーポリマー、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性樹脂層と、を備える、転写型感光性フィルムであって、バインダーポリマーの酸価が110mgKOH/g以上であり、光重合性化合物のFedrosの推算法に基づくSP値が20.5(MJ/m1/2以上であり、銅ニッケル合金を含む電極を備える基材の保護膜の形成に用いられる、転写型感光性フィルム。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)