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1. (WO2019064511) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
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公布号: WO/2019/064511 国际申请号: PCT/JP2017/035556
公布日: 04.04.2019 国际申请日: 29.09.2017
国际专利分类:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/06 (2006.01) ,H01J 37/305 (2006.01)
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
027
未在H01L 21/18或H01L 21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
20
曝光及其设备
H 电学
01
基本电气元件
J
放电管或放电灯
37
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
02
零部件
04
电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置,如电子光学装置,离子光学装置
06
电子源;电子枪
H 电学
01
基本电气元件
J
放电管或放电灯
37
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
305
用于浇铸、熔化、蒸发或浸蚀的
申请人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
发明人:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
代理人:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
优先权数据:
标题 (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL À FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
摘要:
(EN) An electron beam apparatus comprises: a light irradiation apparatus (80) that irradiates a photoelectric element (54) with light; and an electron beam optical system (70) that bombards a wafer W with a an electron beam produced from the photoelectric element due to the irradiation with light by the light irradiation apparatus (80), wherein the light irradiation apparatus (80) has an illumination system, an optical device that produces a plurality of light beams using the light from the illumination system, a first deflection part that deflects the light from the illumination system, a second deflection part that deflects a plurality of light beams from a pattern generator, and a projection system that irradiates the photoelectric element with at least one light beam from the second deflection part.
(FR) L'invention concerne un appareil à faisceau d'électrons comprenant : un appareil d'éclairement lumineux (80) qui éclaire un élément photoélectrique (54) avec de la lumière ; et un système optique à faisceau d'électrons (70) qui bombarde une galette W avec un faisceau d'électrons produit à partir de l'élément photoélectrique en raison de l'éclairement avec de la lumière par l'appareil d'éclairement lumineux (80). L'appareil d'éclairement lumineux (80) comprend un système d'éclairement, un dispositif optique qui produit une pluralité de faisceaux lumineux en utilisant la lumière provenant du système d'éclairement, une première partie de déviation qui dévie la lumière provenant du système d'éclairement, une deuxième partie de déviation qui dévie une pluralité de faisceaux lumineux provenant d'un générateur de motifs, et un système de projection qui éclaire l'élément photoélectrique avec au moins un faisceau lumineux provenant de la deuxième partie de déviation.
(JA) 電子ビーム装置は、光電素子(54)に光を照射する光照射装置(80)と、光照射装置(80)による光の照射によって光電素子から発生する電子ビームをウエハWに照射する電子ビーム光学系(70)と、を備え、光照射装置(80)は、照明系と、照明系からの光で複数の光ビームを発生させる光学デバイスと、照明系からの光を偏向する第1偏向部と、パターンジェネレータからの複数の光ビームを偏向する第2偏向部と、第2偏向部からの少なくとも1つの光ビームを光電素子に照射する投影系と、を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)