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1. (WO2019064473) VAPOR DEPOSITION MASK, MANUFACTURING METHOD FOR VAPOR DEPOSITION MASK, AND MANUFACTURING METHOD FOR DISPLAY DEVICE
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公布号: WO/2019/064473 国际申请号: PCT/JP2017/035417
公布日: 04.04.2019 国际申请日: 29.09.2017
国际专利分类:
C23C 14/24 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C
金属材料的表面处理
14
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
22
以镀覆工艺为特征的
24
真空蒸发
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
B
电热;其他类目不包含的电照明
33
电致发光光源
10
专门适用于制造电致发光光源的设备或方法
申请人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
发明人:
中村 謙太 NAKAMURA, Kenta; --
代理人:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
优先权数据:
标题 (EN) VAPOR DEPOSITION MASK, MANUFACTURING METHOD FOR VAPOR DEPOSITION MASK, AND MANUFACTURING METHOD FOR DISPLAY DEVICE
(FR) MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DUDIT MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法及び表示装置の製造方法
摘要:
(EN) Two divided masks (22a, 22b) adjoin in a second direction of the vapor deposition mask and have an overlap region (OR1) where the divided masks partially overlap each other in plan view, wherein the pitch (P) in the second direction between openings (23a) in multiple divided masks (22a, 22b) including the overlap region (OR1) is the same as the pitch (P) in the second direction between openings (23a) in each of the multiple divided masks (22a, 22b).
(FR) Deux masques divisés (22a, 22b) se rejoignent dans une seconde direction du masque de dépôt en phase vapeur et comportent une région de chevauchement (OR1) dans laquelle les masques divisés se chevauchent partiellement dans une vue en plan, le pas (P) dans la seconde direction entre des ouvertures (23a) dans de multiples masques divisés (22a, 22b), y compris la région de chevauchement (OR1), est identique au pas (P) dans la seconde direction entre des ouvertures (23a) dans chacun des multiples masques divisés (22a, 22b).
(JA) 蒸着用マスクの第2方向において、互いに隣接する2つのディバイデッドマスク(22a、22b)は、平面視において互いに一部が重なる重なり領域(OR1)を有し、重なり領域(OR1)を含む複数のディバイデッドマスク(22a、22b)における開口(23a)間の第2方向におけるピッチ(P)は、複数のディバイデッドマスク(22a、22b)各々における開口(23a)間の第2方向におけるピッチ(P)と同じである。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)