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1. (WO2019064472) UV LIGHT IRRADIATION DEVICE AND UV LIGHT IRRADIATION METHOD
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公布号: WO/2019/064472 国际申请号: PCT/JP2017/035416
公布日: 04.04.2019 国际申请日: 29.09.2017
国际专利分类:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
20
曝光及其设备
申请人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
发明人:
昼岡 正樹 HIRUOKA, Masaki; --
代理人:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
优先权数据:
标题 (EN) UV LIGHT IRRADIATION DEVICE AND UV LIGHT IRRADIATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE RAYONNEMENT DE LUMIÈRE UV ET PROCÉDÉ DE RAYONNEMENT DE LUMIÈRE UV
(JA) UV光照射装置及びUV光照射方法
摘要:
(EN) Disclosed is an UV light irradiation device (1) wherein: a supporting pin (20) supports a subject (50) to be irradiated with UV light (A) at the time of irradiating the subject (50) with the UV light; and a difference between the UV light (A) reflectance of a leading end section (22) of the supporting pin (20) and that of a surface (12) of a stage (10) is equal to 1 % or lower.
(FR) L'invention concerne un dispositif de rayonnement de lumière UV (1) dans lequel : une broche de support (20) supporte un sujet (50) à irradier avec une lumière UV (A) au moment de l'irradiation du sujet (50) avec la lumière UV; et une différence entre la réflectance de la lumière UV (A) d'une section d'extrémité avant (22) de la broche de support (20) et celle d'une surface (12) d'un étage (10) est égale à 1 % ou moins.
(JA) 支持ピン(20)は、被照射体(50)にUV光(A)を照射する際、被照射体(50)を支持し、支持ピン(20)の先端部(22)とステージ(10)の表面(12)との、UV光(A)の反射率の差が1%以下であるUV光照射装置(1)。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)