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1. (WO2019064452) VAPOR DEPOSITION PARTICLE EMITTING DEVICE, VAPOR DEPOSITION APPARATUS, VAPOR DEPOSITION FILM PRODUCTION METHOD
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公布号: WO/2019/064452 国际申请号: PCT/JP2017/035297
公布日: 04.04.2019 国际申请日: 28.09.2017
国际专利分类:
C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/00 (2006.01) ,C23C 14/56 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/14 (2006.01)
C 化学;冶金
23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C
金属材料的表面处理
14
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
22
以镀覆工艺为特征的
24
真空蒸发
C 化学;冶金
23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C
金属材料的表面处理
14
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C 化学;冶金
23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C
金属材料的表面处理
14
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
22
以镀覆工艺为特征的
56
连续镀覆的专用设备;维持真空的装置,例如真空锁定器
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
B
电热;其他类目不包含的电照明
33
电致发光光源
10
专门适用于制造电致发光光源的设备或方法
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
B
电热;其他类目不包含的电照明
33
电致发光光源
12
实质上有二维辐射表面的光源
14
以电致发光材料的化学成分或物理组成或其配置为特征的
申请人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
发明人:
西口 昌男 NISHIGUCHI, Masao; --
代理人:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
优先权数据:
标题 (EN) VAPOR DEPOSITION PARTICLE EMITTING DEVICE, VAPOR DEPOSITION APPARATUS, VAPOR DEPOSITION FILM PRODUCTION METHOD
(FR) DISPOSITIF D'ÉMISSION DE PARTICULES DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, APPAREIL DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ PRODUCTION DE FILM DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着粒子射出装置および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法
摘要:
(EN) A vapor deposition particle emitting device (1) is equipped with a second vapor deposition source (20) and a first vapor deposition source (10) and a third vapor deposition source (30) sandwiching the second vapor deposition source in the Y axis direction. In the first vapor deposition source and the third vapor deposition source, a plurality of nozzles (12, 31) inclined toward the second vapor deposition source are arranged in the X axis direction. In the second vapor deposition source, a plurality of nozzles (23) inclined toward the first vapor deposition source and a plurality of nozzles (22) inclined toward the third vapor deposition source are arranged in the X axis direction.
(FR) Cette invention concerne un dispositif d'émission de particules de dépôt en phase vapeur (1), équipé d'une deuxième source de dépôt en phase vapeur (20) et d'une première source de dépôt en phase vapeur (10) et d'une troisième source de dépôt en phase vapeur (30) prenant en sandwich la deuxième source de dépôt en phase vapeur dans la direction de l'axe Y. Dans la première source de dépôt en phase vapeur et la troisième source de dépôt en phase vapeur, une pluralité de buses (12, 31) inclinées vers la deuxième source de dépôt en phase vapeur sont agencées dans la direction de l'axe X. Dans la deuxième source de dépôt en phase vapeur, une pluralité de buses (23) inclinées vers la première source de dépôt en phase vapeur et une pluralité de buses (22) inclinées vers la troisième source de dépôt en phase vapeur sont agencées dans la direction de l'axe X.
(JA) 蒸着粒子射出装置(1)は、第2蒸着源(20)と、Y軸方向に第2蒸着源を挟む第1蒸着源(10)と第3蒸着源(30)とを備えている。第1蒸着源および第3蒸着源には、第2蒸着源に向かって傾斜する複数のノズル(12・31)がX軸方向に配列されている。第2蒸着源には、第1蒸着源に向かって傾斜する複数のノズル(23)と、第3蒸着源に向かって傾斜する複数のノズル(22)とがX軸方向に配列されている。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)