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1. (WO2019064426) VAPOR DEPOSITION SOURCE, VAPOR DEPOSITION DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING VAPOR DEPOSITION FILM
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2019/064426 国际申请号: PCT/JP2017/035217
公布日: 04.04.2019 国际申请日: 28.09.2017
国际专利分类:
C23C 14/24 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C
金属材料的表面处理
14
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
22
以镀覆工艺为特征的
24
真空蒸发
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
51
使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
50
专门适用于光发射的,如有机发光二极管 (OLED)或聚合物发光器件(PLED)
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
B
电热;其他类目不包含的电照明
33
电致发光光源
10
专门适用于制造电致发光光源的设备或方法
申请人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
发明人:
西口 昌男 NISHIGUCHI, Masao; --
代理人:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
优先权数据:
标题 (EN) VAPOR DEPOSITION SOURCE, VAPOR DEPOSITION DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING VAPOR DEPOSITION FILM
(FR) SOURCE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着源および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法
摘要:
(EN) A vapor deposition source (1) is provided with an accommodating part (2) for accommodating vapor deposition particles (11), and a plurality of nozzles (3) arranged in a line along an X-axis direction, the plurality of nozzles at end parts in the X-axis direction of the accommodating part protruding in an oblique direction toward the end parts in the X-axis direction, the arrangement density of the nozzles in the end parts in the X-axis direction of the accommodating part being greater than the arrangement density of nozzles in a center part of the accommodating part, and a line (L2) connecting top end surfaces (32) of adjacent nozzles in the end parts in the X-axis direction of the accommodating part being a straight line.
(FR) L'invention concerne une source de dépôt en phase vapeur (1), qui est pourvue d'une partie de réception (2), destinée à recevoir des particules de dépôt en phase vapeur (11), et d'une pluralité de buses (3) agencées en ligne le long d'une direction d'axe X, la pluralité de buses au niveau de parties d'extrémité dans la direction d'axe X de la partie de réception faisant saillie dans une direction oblique vers les parties d'extrémité dans la direction d'axe X, la densité d'agencement des buses dans les parties d'extrémité dans la direction d'axe X de la partie de réception étant supérieure à la densité d'agencement de buses dans une partie centrale de la partie de réception, et une ligne (L2) reliant des surfaces d'extrémité supérieure (32) de buses adjacentes dans les parties d'extrémité dans la direction d'axe X de la partie de réception étant une ligne droite.
(JA) 蒸着源(1)は、蒸着粒子(11)を収容する収容部(2)と、X軸方向に沿ってライン状に配列された複数のノズル(3)と、を備え、収容部のX軸方向端部の複数のノズルは、X軸方向端部に向かって斜め方向に突出し、収容部のX軸方向端部におけるノズルの配設密度は、収容部の中央部におけるノズルの配設密度よりも高く、収容部のX軸方向端部において隣り合うノズルの上端面(32)同士を結ぶ線(L2)が直線状である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)