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1. (WO2019062727) 膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法和设备
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公布号: WO/2019/062727 国际申请号: PCT/CN2018/107412
公布日: 04.04.2019 国际申请日: 25.09.2018
国际专利分类:
G06F 17/50 (2006.01) ,H01L 21/762 (2006.01)
G PHYSICS
06
计算;推算;计数
F
电数字数据处理
17
特别适用于特定功能的数字计算设备或数据处理设备或数据处理方法
50
计算机辅助设计
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
70
由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
71
限定在组H01L 21/70中的器件的特殊部件的制造
76
组件间隔离区的制作
762
介电区
申请人:
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 ORDOS YUANSHENG OPTOELECTRONICS CO., LTD. [CN/CN]; 中国内蒙古自治区鄂尔多斯市 东胜区鄂尔多斯装备制造基地 Ordos Equipment Manufacturing Base, Dongsheng District Ordos, Inner Mongolia 017020, CN
发明人:
黄俊杰 HUANG, Chunchieh; CN
王琦 WANG, Qi; CN
张健 ZHANG, Jian; CN
吕守华 LV, Shouhua; CN
杨成发 YANG, Chengfa; CN
周猛 ZHOU, Meng; CN
代理人:
北京中博世达专利商标代理有限公司 BEIJING ZBSD PATENT & TRADEMARK AGENT LTD.; 中国北京市 海淀区交大东路31号11号楼8层 8F, Building 11 No. 31 Jiaoda East Road, Haidian District Beijing 100044, CN
优先权数据:
201710883448.626.09.2017CN
标题 (EN) METHOD AND DEVICE FOR CALCULATING EQUIVALENT MECHANICAL PARAMETERS OF FILM LAYER ETCHING REGION
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE CALCUL DE PARAMÈTRES MÉCANIQUES ÉQUIVALENTS D'UNE RÉGION DE GRAVURE DE COUCHE DE FILM
(ZH) 膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法和设备
摘要:
(EN) The present disclosure provides a method for calculating equivalent mechanical parameters of a film layer etching region, the method comprising: selecting at least a part of the film layer etching region as an analysis region; establishing a planar model corresponding to the analysis region; performing grid division on the planar model at a first density; according to the actual mechanical parameters of film layer material and the grid division of the first density, analyzing, by means of a finite element method, a first simulation stress of the planar model in simulated boundary conditions; and calculating equivalent mechanical parameters, under the simulated boundary conditions, the equivalent mechanical parameters enabling an anisotropic planar blanking panel having the same size as that of the boundary of the planar model to reach the first simulated stress.
(FR) La présente invention concerne un procédé de calcul de paramètres mécaniques équivalents d'une région de gravure de couche de film, le procédé consistant à : sélectionner au moins une partie de la région de gravure de couche de film en tant que région d'analyse; établir un modèle plan correspondant à la région d'analyse; réaliser une division de grille sur le modèle plan à une première densité; en fonction des paramètres mécaniques réels du matériau de couche de film et de la division de grille de la première densité, analyser, au moyen d'un procédé à éléments finis, une première contrainte de simulation du modèle plan dans des conditions limites simulées; et calculer des paramètres mécaniques équivalents, dans les conditions limites simulées, les paramètres mécaniques équivalents permettant à un panneau de découpage plan anisotrope ayant la même taille que celui de la limite du modèle plan d'atteindre la première contrainte simulée.
(ZH) 本公开提供一种膜层刻蚀区域等效力学参数的计算方法,其包括:选取膜层刻蚀区域的至少一部分为分析区域;建立与分析区域对应的平面模型;以第一密度对平面模型进行网格划分;根据膜层材料的实际力学参数和第一密度的网格划分,通过有限元法分析平面模型在模拟边界条件下的第一模拟应力;计算等效力学参数,其中,在模拟边界条件下,等效力学参数能使与平面模型边界尺寸相同的各向异性的平面盲板达到第一模拟应力。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 中文 (ZH)
申请语言: 中文 (ZH)