此应用程序的某些内容目前无法使用。
如果这种情况持续存在,请联系我们反馈与联系
1. (WO2019061724) BPS型阵列基板及其制作方法
国际局存档的最新著录项目数据    提交意见

公布号: WO/2019/061724 国际申请号: PCT/CN2017/110979
公布日: 04.04.2019 国际申请日: 15.11.2017
国际专利分类:
G02F 1/1339 (2006.01) ,G02F 1/1362 (2006.01) ,G02F 1/1368 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01)
G PHYSICS
02
光学
F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
1
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
1333
构造上的设备
1339
垫圈;间隔体;液晶单元的密封
G PHYSICS
02
光学
F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
1
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
1362
有源矩阵寻址单元
G PHYSICS
02
光学
F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
1
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
1362
有源矩阵寻址单元
1368
其中开关元件为三电极装置
G PHYSICS
02
光学
F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
1
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
1333
构造上的设备
1335
与液晶单元结构相连的光学装置,例如偏振器、反射器
申请人:
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO.,LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳 光明新区公明街道塘明大道9-2号 No.9-2,Tangming Road,Gongming Street,Guangming new district Shenzhen, Guangdong 518132, CN
发明人:
于承忠 YU, Chengzhong; CN
代理人:
深圳市德力知识产权代理事务所 COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; 中国广东省深圳市 福田区上步中路深勘大厦15E Room 15E Shenkan Building, Shangbu Zhong Road, Futian District Shenzhen, Guangdong 518028, CN
优先权数据:
201710884327.326.09.2017CN
标题 (EN) ARRAY SUBSTRATE EMPLOYING BPS TECHNOLOGY AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) SUBSTRAT DE RÉSEAU UTILISANT LA TECHNOLOGIE BPS, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
(ZH) BPS型阵列基板及其制作方法
摘要:
(EN) An array substrate employing BPS technology and a manufacturing method thereof. The manufacturing method of an array substrate employing BPS technology involves provision of a black matrix (83), a main photo spacer (81) and a sub photo spacer (82) at an array substrate in the same manufacturing process, such that production time and production costs can be reduced, thereby increasing product competitiveness. A thickness of a color resist unit (41) is employed to realize a height difference between the main photo spacer (81) and the black matrix (83). The thickness of the color resist unit (41) is also employed, in combination with control of optical transmittance of a mask, to realize a height difference between the sub photo spacer (82) and the black matrix (83), such that heights of the main photo spacer (81) and the sub photo spacer (82) can be controlled easily. Since a region of a black light-shielding film (60) at which the black matrix (83) is correspondingly formed corresponds to a fully transparent region (72) of a mask plate in an exposure process and is exposed to an adequate dose of ultraviolet radiation during exposure, a BPS material undergoes a thorough cross-linking reaction, has high stability, and is less affected by a developing solution in a developing process, such that the BPS material is not dissolved, thereby ensuring a uniform film thickness of the black matrix (83).
(FR) L'invention a trait à un substrat de réseau utilisant la technologie BPS, et à un procédé de fabrication associé. Le procédé de fabrication d'un substrat de réseau utilisant la technologie BPS consiste à utiliser une matrice noire (83), une entretoise photographique principale (81) et une entretoise photographique secondaire (82) à l'emplacement d'un substrat de réseau au cours du même processus de fabrication, de telle sorte que le temps de production et les coûts de production puissent être réduits, ce qui permet d'accroître la compétitivité du produit. L'épaisseur d'une unité de réserve de couleur (41) est utilisée pour réaliser une différence de hauteur entre l'entretoise photographique principale (81) et la matrice noire (83). L'épaisseur de l'unité de réserve de couleur (41) est également utilisée, en association avec le réglage de la transmittance optique d'un masque, pour réaliser une différence de hauteur entre ladite entretoise photographique secondaire (82) et ladite matrice noire (83), de telle sorte que les hauteurs de l'entretoise photographique principale (81) et de cette entretoise photographique secondaire (82) puissent être facilement réglées. Puisqu'une région d'un film noir de protection contre la lumière (60) à l'emplacement duquel la matrice noire (83) est formée de manière correspondante correspond à une région entièrement transparente (72) d'une plaque de masque lors d'un processus d'exposition et qu'elle est exposée à une dose appropriée de rayonnement ultraviolet pendant l'exposition, un matériau BPS subit une réaction de réticulation approfondie, présente une stabilité élevée, et est moins altéré par une solution de développement au cours d'un processus de développement, de telle sorte que le matériau BPS ne soit pas dissout, ce qui garantit une épaisseur de film constante de la matrice noire (83).
(ZH) 一种BPS型阵列基板及其制作方法。BPS型阵列基板的制作方法将黑色矩阵(83)、主隔垫物(81)、副隔垫物(82)均设于阵列基板上并在同一制程中实现,能够缩减生产时间,降低生产成本,提高产品竞争力;利用色阻单元(41)的厚度来实现主隔垫物(81)与黑色矩阵(83)的高度差,同时利用色阻单元(41)的厚度并通过控制掩膜板的透光率来实现副隔垫物(82)与黑色矩阵(83)的高度差,使主隔垫物(81)与副隔垫物(82)的高度更易于控制;黑色遮光膜层(60)上对应形成黑色矩阵(83)的区域在曝光过程中对应的掩膜板区域为全透光区(72),曝光时受到的紫外线照射剂量充足,交联反应完全,因而稳定性较高,在显影过程中受到显影液的影响较小,不会被溶解,从而保证黑色矩阵(83)的膜厚均匀性较好。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 中文 (ZH)
申请语言: 中文 (ZH)