检索国际和国家专利汇编
此应用程序的某些内容目前无法使用。
如果这种情况持续存在,请联系我们反馈与联系
1. (WO2019050507) METHODS OF HANDLING A MASK DEVICE, APPARATUS FOR EXCHANGING A MASK DEVICE, MASK EXCHANGE CHAMBER, AND VACUUM SYSTEM
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2019/050507 国际申请号: PCT/US2017/050129
公布日: 14.03.2019 国际申请日: 05.09.2017
国际专利分类:
H01L 51/56 (2006.01) ,H01L 51/00 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01) ,H01L 21/033 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
51
使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
50
专门适用于光发射的,如有机发光二极管 (OLED)或聚合物发光器件(PLED)
56
专门适用于制造或处理这种器件或其部件的方法或设备
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
51
使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
027
未在H01L 21/18或H01L 21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜
033
包括无机层的
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
20
曝光及其设备
申请人:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
发明人:
GOVINDASAMY, Sathiyamurthi; IN
KLEIN, Wolfgang; DE
SALUGU, Srinivas; IN
SAUER, Andreas; DE
ZANG, Sebastian Gunther; DE
代理人:
PATTERSON, B. Todd; US
TACKETT, Keith M.; US
优先权数据:
标题 (EN) METHODS OF HANDLING A MASK DEVICE, APPARATUS FOR EXCHANGING A MASK DEVICE, MASK EXCHANGE CHAMBER, AND VACUUM SYSTEM
(FR) PROCÉDÉS DE MANIPULATION D'UN DISPOSITIF DE MASQUAGE, APPAREIL D'ÉCHANGE D'UN DISPOSITIF DE MASQUAGE, CHAMBRE D'ÉCHANGE DE MASQUE ET SYSTÈME SOUS VIDE
摘要:
(EN) Method of handling a mask device are described. According to m embodiment, the method includes: Loading the mask device on a holding arrangement for holding the mask device; moving the holding arrangement from a first state into a second state, the second slate being a non-horizontal state; aligning the holding- arrangement with a mask carrier; and transferring the mask device from the holding arrangement to the mask earner. Further, an apparatus for exchanging a mask device from a mask carrier as well as a vacuum system including such an apparatus are described.
(FR) L'invention concerne un procédé de manipulation de dispositif de masquage. Selon un mode de réalisation, le procédé consiste à : charger le dispositif de masquage sur un agencement de maintien pour maintenir le dispositif de masquage; faire passer l'agencement de maintien d'un premier état vers un second état, le second état étant un état non horizontal; aligner l'agencement de maintien avec un support de masque; et transférer le dispositif de masquage de l'agencement de maintien au support de masque. En outre, l'invention concerne un appareil d'échange d'un dispositif de masquage à partir d'un support de masque, ainsi qu'un système sous vide comprenant un tel appareil.
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 英语 (EN)
申请语言: 英语 (EN)
也发表为:
CN109792004