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1. (WO2019049940) PATTERN DRAWING DEVICE
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公布号: WO/2019/049940 国际申请号: PCT/JP2018/033073
公布日: 14.03.2019 国际申请日: 06.09.2018
国际专利分类:
G03F 7/20 (2006.01) ,B41J 2/47 (2006.01) ,G02B 26/12 (2006.01) ,H05K 3/00 (2006.01)
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
20
曝光及其设备
B 作业;运输
41
印刷;排版机;打字机;模印机
J
打字机;选择性印刷机构,即不用印版的印刷机构;排版错误的修正
2
以打印或标记工艺为特征而设计的打字机或选择性印刷机构
435
特征在于有选择地向印刷材料或转印材料提供照射
47
用扫描和调谐光的组合
G PHYSICS
02
光学
B
光学元件、系统或仪器
26
利用可移动的或可变形的光学元件控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的光学器件或装置,例如,开关、选通、调制
08
控制光的方向
10
扫描系统
12
用多面反射镜的
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
K
印刷电路;电设备的外壳或结构零部件;电气元件组件的制造
3
用于制造印刷电路的设备或方法
申请人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
发明人:
鬼頭義昭 KITO Yoshiaki; JP
加藤正紀 KATO Masaki; JP
代理人:
千葉剛宏 CHIBA Yoshihiro; JP
宮寺利幸 MIYADERA Toshiyuki; JP
千馬隆之 SENBA Takayuki; JP
仲宗根康晴 NAKASONE Yasuharu; JP
坂井志郎 SAKAI Shiro; JP
関口亨祐 SEKIGUCHI Kosuke; JP
优先权数据:
2017-17260108.09.2017JP
标题 (EN) PATTERN DRAWING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF
(JA) パターン描画装置
摘要:
(EN) While modulating the intensity of a drawing beam (LBn) to be projected as spot light (SP') to a substrate (P) on the basis of drawing data of a pattern defined by multiple pixels (PIC), this pattern drawing device (EX) relatively scans the projection position of the spot light (SP') along two-dimensional arrangement of the pixels (PIC) on the substrate (P). The pattern drawing device (EX) is provided with: a light source unit (LS) which, on the basis of the drawing data, emits a predetermined number of pulsed light beams to be oscillated as drawing beams with a predetermined period (Tf) to respective exposure pixels that are irradiated with the spot light (SP') during the relative scanning, and suspends the emission of the predetermined number of pulsed light beams to respective non-exposure pixels that are not irradiated with the spot light (SP') during the relative scanning; and a drawing control unit (200) which controls the light source unit (LS) such that the number of pulsed light beams to be emitted to edge part exposure pixels (PIC') corresponding to an edge part of the pattern among the exposure pixels increases or decreases relatively to the predetermined number.
(FR) Tout en modulant l’intensité d’un faisceau de dessin (LBn) devant être projeté en tant que lumière ponctuelle (SP’) sur un substrat (P) sur la base de données de dessin d’un motif défini par des pixels multiples (PIC), le dispositif de dessin de motif (EX) selon la présente invention balaye relativement la position de projection de la lumière ponctuelle (SP’) le long d’un agencement bidimensionnel des pixels (PIC) sur le substrat (P). Le dispositif de dessin de motif (EX) est pourvu de : une unité de source de lumière (LS) qui, sur la base des données de dessin, émet un nombre prédéterminé de faisceaux lumineux pulsés amenant à osciller en tant que faisceaux de dessin avec une période prédéterminée (Tf) vers des pixels d’exposition respectifs qui sont irradiés avec la lumière ponctuelle (SP’) pendant le balayage relatif, et suspend l’émission du nombre prédéterminé de faisceaux lumineux pulsés vers des pixels non exposés respectifs qui ne sont pas irradiés avec la lumière ponctuelle (SP’) pendant le balayage relatif ; et une unité de commande de dessin (200) qui commande l’unité de source de lumière (LS) de sorte que le nombre de faisceaux de lumière pulsés devant être émis vers des pixels d’exposition de partie de bord (PIC’) correspondant à une partie de bord du motif parmi les pixels d’exposition augmente ou diminue par rapport au nombre prédéterminé.
(JA) パターン描画装置(EX)は、スポット光(SP')として基板(P)に投射される描画ビーム(LBn)の強度を、多数の画素(PIC)で規定されるパターンの描画データに基づいて変調しつつ、スポット光(SP')の投射位置を基板(P)上で画素(PIC)の2次元的な配列に沿って相対走査する。パターン描画装置(EX)は、描画データに基づいて、相対走査中にスポット光(SP')が照射される露光画素の各々に対しては、描画ビームとして所定周期(Tf)で発振されるパルス光の所定数を射出し、相対走査中にスポット光(SP')が非照射とされる非露光画素の各々に対しては所定数のパルス光の射出を中断する光源装置(LS)と、描画データに基づいて、露光画素のうちでパターンのエッジ部に対応したエッジ部露光画素(PIC')に対して射出されるパルス光の数が、所定数に対して相対的に増減されるように光源装置(LS)を制御する描画制御装置(200)と、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)