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1. (WO2019049830) FILTER DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING FILTER DEVICE
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公布号: WO/2019/049830 国际申请号: PCT/JP2018/032630
公布日: 14.03.2019 国际申请日: 03.09.2018
国际专利分类:
H03H 9/145 (2006.01) ,H03H 3/08 (2006.01) ,H03H 9/64 (2006.01)
H 电学
03
基本电子电路
H
阻抗网络,例如谐振电路;谐振器
9
包括机电或电声器件的网络;机电谐振器
02
零部件
125
激励装置,例如电极,线圈
145
用于应用声表面波的网络
H 电学
03
基本电子电路
H
阻抗网络,例如谐振电路;谐振器
3
专用于制造阻抗网络、谐振电路、谐振器的设备或方法
007
用于制造机电谐振器或网络
08
用于制造应用声表面波的网络或谐振器
H 电学
03
基本电子电路
H
阻抗网络,例如谐振电路;谐振器
9
包括机电或电声器件的网络;机电谐振器
46
滤波器
64
应用声表面波
申请人:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
发明人:
高峰 裕一 TAKAMINE, Yuichi; JP
代理人:
吉川 修一 YOSHIKAWA, Shuichi; JP
傍島 正朗 SOBAJIMA, Masaaki; JP
优先权数据:
2017-17056705.09.2017JP
标题 (EN) FILTER DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING FILTER DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FILTRE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF DE FILTRE
(JA) フィルタ装置およびフィルタ装置の製造方法
摘要:
(EN) This filter device (1) is provided with: a substrate (50) which has piezoelectricity; a first filter (10) which comprises an IDT electrode (52) that is provided on the substrate (50); an electrode (30a) for terminals, which is provided on the substrate (50); a first wiring electrode (41) which is provided on the substrate (50) and connects the first filter (10) and the electrode (30a) for terminals with each other; and a dielectric film (61) which is provided on the substrate (50) so as to cover the IDT electrode (52). At least a part of the first wiring electrode (41) is not covered by the dielectric film (61).
(FR) Ce dispositif de filtre (1) comprend : un substrat (50) qui présente une piézoélectricité ; un premier filtre (10) qui comprend une électrode IDT (52) qui est disposée sur le substrat (50) ; une électrode (30a) pour des bornes, qui est disposée sur le substrat (50) ; une première électrode de câblage (41) qui est disposée sur le substrat (50) et connecte le premier filtre (10) et l'électrode (30a) pour des bornes l'un à l'autre ; et un film diélectrique (61) qui est disposé sur le substrat (50) de manière à recouvrir l'électrode IDT (52). Au moins une partie de la première électrode de câblage (41) n'est pas recouverte par le film diélectrique (61).
(JA) フィルタ装置(1)は、圧電性を有する基板(50)と、基板(50)上に設けられたIDT電極(52)を含む第1フィルタ(10)と、基板(50)上に設けられた端子用電極(30a)と、基板(50)上に設けられ、第1フィルタ(10)と端子用電極(30a)とをつなぐ第1の配線電極(41)と、IDT電極(52)を覆うように基板(50)上に設けられた誘電体膜(61)とを備える。第1の配線電極(41)の少なくとも一部は、誘電体膜(61)に覆われていない。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)