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1. (WO2019049453) DEPOSITION MASK, METHOD FOR MANUFACTURING DEPOSITION MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
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公布号: WO/2019/049453 国际申请号: PCT/JP2018/022525
公布日: 14.03.2019 国际申请日: 13.06.2018
国际专利分类:
C23C 14/04 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01)
C 化学;冶金
23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C
金属材料的表面处理
14
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
04
局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
B
电热;其他类目不包含的电照明
33
电致发光光源
10
专门适用于制造电致发光光源的设备或方法
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
51
使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
50
专门适用于光发射的,如有机发光二极管 (OLED)或聚合物发光器件(PLED)
申请人:
株式会社ジャパンディスプレイ JAPAN DISPLAY INC. [JP/JP]; 東京都港区西新橋三丁目7番1号 3-7-1 Nishi-shinbashi, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
发明人:
觀田 康克 KANDA Noriyoshi; JP
木村 泰一 KIMURA Yasukazu; JP
平賀 健太 HIRAGA Kenta; JP
松浦 由紀 MATSUURA Yuki; JP
代理人:
特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ TAKAHASHI, HAYASHI AND PARTNER PATENT ATTORNEYS, INC.; 東京都大田区蒲田5-24-2 損保ジャパン日本興亜蒲田ビル9階 Sonpo Japan Nipponkoa Kamata Building 9F, 5-24-2 Kamata, Ota-ku, Tokyo 1440052, JP
优先权数据:
2017-17182907.09.2017JP
标题 (EN) DEPOSITION MASK, METHOD FOR MANUFACTURING DEPOSITION MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
(FR) MASQUE DE DÉPÔT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MASQUE DE DÉPÔT, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF D’AFFICHAGE
(JA) 蒸着マスク、蒸着マスクの作製方法、および表示装置の製造方法
摘要:
(EN) The present invention provides a deposition mask. The deposition mask has a metal plate that has: an upper surface; a lower surface, which is positioned below the upper surface, and which is disposed further than the upper surface from a substrate to be subjected to deposition; and an opening penetrating from the upper surface to the lower surface. The side wall of the opening has a first surface, and a second surface positioned below the first surface. A first angle formed between the first surface and the upper surface is larger than a second angle formed between the second surface and the upper surface. The first angle and the second angle are larger than 0° but smaller than 90°.
(FR) La présente invention concerne un masque de dépôt. Le masque de dépôt comporte une plaque métallique qui comporte : une surface supérieure ; une surface inférieure, qui est positionnée au-dessous de la surface supérieure, et qui est disposée plus loin que la surface supérieure d'un substrat devant être soumis à un dépôt ; et une ouverture pénétrant de la surface supérieure à la surface inférieure. La paroi latérale de l'ouverture a une première surface, et une seconde surface positionnée au-dessous de la première surface. Un premier angle formé entre la première surface et la surface supérieure est supérieur à un second angle formé entre la seconde surface et la surface supérieure. Le premier angle et le second angle sont supérieurs à 0° mais inférieurs à 90°.
(JA) 【解決手段】蒸着マスクが提供される。蒸着マスクは、上面と、上面の下に位置し、蒸着に供される基板に対して上面よりも遠くに配置される下面と、上面から下面へ貫通する開口とを有する金属板を有する。開口の側壁は第1の面、および第1の面の下に位置する第2の面を有する。第1の面と上面がなす第1の角度は、第2の面と上面がなす第2の角度よりも大きい。第1の角度と第2の角度は、0°よりも大きく、90°よりも小さい。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)