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1. (WO2019045063) FLUOROSULFONYL GROUP-CONTAINING COMPOUND, FLUOROSULFONYL GROUP-CONTAINING MONOMER, AND PRODUCTION METHODS FOR SAME
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2019/045063 国际申请号: PCT/JP2018/032433
公布日: 07.03.2019 国际申请日: 31.08.2018
国际专利分类:
C07C 309/82 (2006.01) ,C07C 303/22 (2006.01) ,C07C 309/80 (2006.01) ,C08F 20/22 (2006.01) ,C25B 13/08 (2006.01) ,H01B 1/06 (2006.01) ,H01B 1/12 (2006.01) ,H01M 4/86 (2006.01) ,H01M 8/10 (2016.01) ,H01M 8/1023 (2016.01) ,H01M 8/18 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
309
磺酸;其卤化物、酯或酐
78
磺酰卤化物
79
有连接在非环碳原子上的卤代磺酰基
82
被单键氧原子取代的碳架的
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
303
硫酸酯或硫酸酰胺的制备;磺酸或其酯、卤化物、酐或酰胺的制备
02
磺酸或其卤化物的
22
由磺酸经不涉及形成磺基或卤代磺酰基的反应
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
309
磺酸;其卤化物、酯或酐
78
磺酰卤化物
79
有连接在非环碳原子上的卤代磺酰基
80
饱和碳架的
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
20
具有1个或更多的不饱和脂族基化合物的均聚物或共聚物,每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键,并且只有1个是以羧基或它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈为终端
02
具有少于10个碳原子的一元羧酸;它的衍生物
10
22
含卤素的酯
C 化学;冶金
25
电解或电泳工艺;其所用设备
B
生产化合物或非金属的电解工艺或电泳工艺;其所用的设备
13
隔膜;间隔元件
04
以材料为特征的
08
以有机材料为基料的
H 电学
01
基本电气元件
B
电缆;导体;绝缘体;导电、绝缘或介电材料的选择
1
按导电材料特性区分的导体或导电物体;用作导体的材料选择
06
主要由其他非金属物质组成的
H 电学
01
基本电气元件
B
电缆;导体;绝缘体;导电、绝缘或介电材料的选择
1
按导电材料特性区分的导体或导电物体;用作导体的材料选择
06
主要由其他非金属物质组成的
12
有机物质
H 电学
01
基本电气元件
M
用于直接转变化学能为电能的方法或装置,例如电池组
4
电极(用于电解法的电极入C25)
86
用催化剂活化的惰性电极,例如用于燃料电池
H 电学
01
基本电气元件
M
用于直接转变化学能为电能的方法或装置,例如电池组
8
燃料电池;及其制造
10
固体电解质的燃料电池
[IPC code unknown for H01M 8/1023]
H 电学
01
基本电气元件
M
用于直接转变化学能为电能的方法或装置,例如电池组
8
燃料电池;及其制造
18
再生式燃料电池
申请人:
AGC株式会社 AGC INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目5番1号 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
发明人:
平居 丈嗣 HIRAI Takeshi; JP
上牟田 大輔 JOMUTA Daisuke; JP
民辻 慎哉 TAMITSUJI Chikaya; JP
代理人:
泉名 謙治 SENMYO Kenji; JP
小川 利春 OGAWA Toshiharu; JP
金 鎭文 KIM Jin-Moon; JP
比企野 健 HIKINO Ken; JP
横井 大一郎 YOKOI Daiichiro; JP
优先权数据:
2017-16865901.09.2017JP
2018-09175610.05.2018JP
2018-09175710.05.2018JP
标题 (EN) FLUOROSULFONYL GROUP-CONTAINING COMPOUND, FLUOROSULFONYL GROUP-CONTAINING MONOMER, AND PRODUCTION METHODS FOR SAME
(FR) COMPOSÉ CONTENANT UN GROUPE FLUOROSULFONYLE, MONOMÈRE CONTENANT UN GROUPE FLUOROSULFONYLE, ET PROCÉDÉS DE PRODUCTION ASSOCIÉS
(JA) フルオロスルホニル基含有化合物、フルオロスルホニル基含有モノマー及びそれらの製造方法
摘要:
(EN) The present invention relates to: a fluorosulfonyl group-containing compound production method by which a compound represented by formula 5 is obtained using a compound represented by formula 1 as the starting material; and a fluorosulfonyl group-containing monomer production method which uses a fluorosulfonyl group-containing compound. R1 and R2 are C1-C3 alkylene groups, and RF1 and RF2 are C1-C3 perfluoroalkylene groups.
(FR) La présente invention concerne : un procédé de production de composé contenant un groupe fluorosulfonyle par lequel un composé représenté par la formule 5 est obtenu à l'aide d'un composé représenté par la formule 1 en tant que matériau de départ; et un procédé de production de monomère contenant un groupe fluorosulfonyle qui utilise un composé contenant un groupe fluorosulfonyle. R1 et R2 représentent des groupes alkylène en C1-C3, et RF1 et RF2 représentent des groupes perfluoroalkylène en C1-C3.
(JA) 下式1で表される化合物を出発原料として下式5で表される化合物を得るフルオロスルホニル基含有化合物の製造方法、及びフルオロスルホニル基含有化合物を用いたフルオロスルホニル基含有モノマーの製造方法に関する。 ただし、R及びRは、炭素数1~3のアルキレン基であり、RF1及びRF2は、炭素数1~3のペルフルオロアルキレン基である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)