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1. (WO2019044857) WIRING SUBSTRATE, COMPONENT MOUNTING WIRING SUBSTRATE, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING WIRING SUBSTRATE
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公布号: WO/2019/044857 国际申请号: PCT/JP2018/031835
公布日: 07.03.2019 国际申请日: 28.08.2018
国际专利分类:
H05K 3/18 (2006.01) ,H01L 23/12 (2006.01) ,H05K 1/18 (2006.01) ,H05K 3/46 (2006.01)
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
K
印刷电路;电设备的外壳或结构零部件;电气元件组件的制造
3
用于制造印刷电路的设备或方法
10
其中将导电材料按照形成所要求的导电图案的方式敷至绝缘支承物上的
18
应用沉淀技术涂加导电材料的
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
23
半导体或其他固态器件的零部件
12
安装架,例如不可拆卸的绝缘衬底
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
K
印刷电路;电设备的外壳或结构零部件;电气元件组件的制造
1
印刷电路
18
在结构上与非印制电元件相联接的印刷电路
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
K
印刷电路;电设备的外壳或结构零部件;电气元件组件的制造
3
用于制造印刷电路的设备或方法
46
多层电路的制造
申请人:
大日本印刷株式会社 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都新宿区市谷加賀町一丁目一番一号 1-1-1, Ichigaya Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001, JP
发明人:
高橋 直大 TAKAHASHI Naohiro; JP
榊 真史 SAKAKI Masashi; JP
太田 啓吾 OHTA Keigo; JP
馬渡 宏 MAWATARI Hiroshi; JP
俵屋 誠治 TAWARAYA Seiji; JP
代理人:
特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ TAKAHASHI, HAYASHI AND PARTNER PATENT ATTORNEYS, INC.; 東京都大田区蒲田5-24-2 損保ジャパン日本興亜蒲田ビル9階 Sonpo Japan Nipponkoa Kamata Building 9F, 5-24-2 Kamata, Ota-ku, Tokyo 1440052, JP
优先权数据:
2017-16401529.08.2017JP
2017-18655027.09.2017JP
标题 (EN) WIRING SUBSTRATE, COMPONENT MOUNTING WIRING SUBSTRATE, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING WIRING SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT DE CÂBLAGE, SUBSTRAT DE CÂBLAGE DE MONTAGE DE COMPOSANT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT DE CÂBLAGE
(JA) 配線基板、部品実装配線基板、半導体装置および配線基板の製造方法
摘要:
(EN) According to an embodiment of the present disclosure, provided is a wiring substrate that includes: a substrate; an insulating layer on the substrate; a height adjustment unit provided within the insulating layer; a first electrically conductive part provided on the insulating layer; and a second electrically conductive part adjacent to the electrically conductive part, provided on the insulating layer and the height adjustment unit, wherein the height from the substrate top surface to the top surface of the first electrically conductive part and the height from the top surface of the substrate to the top surface of the second electrically conductive part approximately match. In the wiring substrate, the height adjustment unit can also be a dummy via part that is adjacent to a via part placed on a lower part wiring, and is provided within the insulating layer. Also, in the wiring substrate, the first electrically conductive part and the second electrically conductive part configure an Nth wiring layer among multi-layer wiring layers made by laminating first to Nth (where N is an integer of 2 or more) wiring layers in this order, and the height adjustment unit, at the lower part in the lamination direction of the second electrically conductive part, may be provided at least on a portion of the electrically conductive parts configuring the respective first to N–1th wiring layers.
(FR) Selon un mode de réalisation de la présente invention, un substrat de câblage comprend : un substrat ; une couche isolante sur le substrat ; une unité de réglage de hauteur disposée dans la couche isolante ; une première partie électro-conductrice située sur la couche isolante ; et une seconde partie électro-conductrice adjacente à la partie électro-conductrice, située sur la couche isolante et sur l'unité de réglage de hauteur, la hauteur de la surface supérieure du substrat à la surface supérieure de la première partie électro-conductrice, et la hauteur de la surface supérieure du substrat à la surface supérieure de la seconde partie électro-conductrice correspondant approximativement. Dans le substrat de câblage, l'unité de réglage de hauteur peut également être une partie de trou d'interconnexion factice qui est adjacente à une partie de trou d'interconnexion placée sur un câblage de partie inférieure, et est disposée dans la couche isolante. De plus, dans le substrat de câblage, les première et seconde parties électro-conductrices forment une N-ième couche de câblage parmi des couches de câblage multicouches fabriquées par stratification de première à N-ième (N étant un entier supérieur ou égal à 2) couches de câblage dans cet ordre, et l'unité de réglage de hauteur, au niveau de la partie inférieure dans la direction de stratification de la seconde partie électro-conductrice, peut être disposée au moins sur une portion des parties électro-conductrices formant les premières à N-1ièmes couches de câblage respectives.
(JA) 本開示の一実施形態によると,基板と,基板上の絶縁層と,絶縁層内に設けられた高さ調整部と,絶縁層上に設けられた第1導電部と,第1導電部と隣接し,絶縁層および高さ調整部上に設けられた第2導電部と,を含み,基板上面から第1導電部の上面までの高さと,基板の上面から第2導電部の上面までの高さが略一致している,配線基板が提供される。上記配線基板において,高さ調整部は,下部配線上に配置されたビア部に隣接し,絶縁層内に設けられたダミービア部であってもよい。また,上記配線基板において,第1導電部および第2導電部は,第1〜第N(Nは2以上の整数である。)配線層がこの順に積層されてなる多層配線層のうちの第N配線層を構成し,高さ調整部は,第2導電部の積層⽅向下⽅において,第1〜第N-1配線層のそれぞれを構成する導電部の少なくとも一部に設けられてもよい。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)