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1. (WO2019044817) NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2019/044817 国际申请号: PCT/JP2018/031738
公布日: 07.03.2019 国际申请日: 28.08.2018
国际专利分类:
G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/075 (2006.01)
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
004
感光材料
038
高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
004
感光材料
04
铬酸盐类
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
004
感光材料
075
含硅的化合物
申请人:
住友ベークライト株式会社 SUMITOMO BAKELITE CO., LTD. [JP/JP]; 東京都品川区東品川2丁目5番8号 5-8, Higashi-shinagawa 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1400002, JP
发明人:
鈴木 咲子 SUZUKI, Sakiko; JP
山川 雄大 YAMAKAWA, Yuta; JP
高橋 泰典 TAKAHASHI, Yasunori; JP
代理人:
朝比 一夫 ASAHI, Kazuo; JP
増田 達哉 MASUDA, Tatsuya; JP
优先权数据:
2017-16370428.08.2017JP
标题 (EN) NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE NÉGATIVE, DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEUR ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) ネガ型感光性樹脂組成物、半導体装置および電子機器
摘要:
(EN) This negative photosensitive resin composition contains a thermosetting resin, a photopolymerization initiator and a coupling agent which contains an acid anhydride as a functional group. It is preferable that the thermosetting resin contains a polyfunctional epoxy resin. It is also preferable that the content of the polyfunctional epoxy resin is 40-80% by mass relative to the nonvolatile components of the negative photosensitive resin composition. It is also preferable that the coupling agent is a compound containing an alkoxysilyl group, which comprises succinic acid anhydride as a functional group.
(FR) La présente invention concerne une composition de résine photosensible négative qui contient une résine thermodurcissable, un amorceur de photopolymérisation et un agent de couplage qui contient un anhydride d'acide en tant que groupe fonctionnel. Il est préférable que la résine thermodurcissable contienne une résine époxyde polyfonctionnelle. Il est également préférable que la teneur de la résine époxyde polyfonctionnelle soit de 40% à 80% en masse par rapport aux composants non volatils de la composition de résine photosensible négative. Il est également préférable que l'agent de couplage soit un composé contenant un groupe alcoxysilyle, qui comprend de l'anhydride d'acide succinique en tant que groupe fonctionnel.
(JA) 本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂と、光重合開始剤と、官能基として酸無水物を含有するカップリング剤と、を含む。このうち、熱硬化性樹脂は、多官能エポキシ樹脂を含んでいることが好ましい。また、多官能エポキシ樹脂の含有量は、ネガ型感光性樹脂組成物の不揮発成分に対して40~80質量%であることが好ましい。また、カップリング剤は、官能基としてコハク酸無水物を有する、アルコキシシリル基を含む化合物であることが好ましい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)