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1. (WO2019044369) BLOCK COPOLYMER FOR PHOTOSENSITIVE PRINTING PLATE MATERIAL HAVING EXCELLENT ABRASION RESISTANCE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2019/044369 国际申请号: PCT/JP2018/029078
公布日: 07.03.2019 国际申请日: 02.08.2018
国际专利分类:
C08F 297/04 (2006.01) ,B41N 1/12 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
297
使用离子型或配位型催化剂逐次聚合不同单体体系,而不使中间聚合物减活的聚合作用所得到的高分子化合物
02
使用阴离子催化剂
04
聚合乙烯基芳香族单体与共轭二烯烃
B 作业;运输
41
印刷;排版机;打字机;模印机
N
印版或箔(光敏材料入G03);印刷机上印刷、着墨、润湿用的表面材料;上述所用表面的制备和保存
1
印版或箔;及其所用材料
12
除石料外的非金属
申请人:
ジェイエスアール クレイトン エラストマー株式会社 KRATON JSR ELASTOMERS K.K. [JP/JP]; 東京都港区港南2丁目16番2号 太陽生命品川ビル9階 Taiyoseimeishinagawa Bldg. 9F, 2-16-2 Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075, JP
发明人:
鳥居 政俊 TORII Masatoshi; JP
山本 慎吾 YAMAMOTO Shingo; JP
藤▲崎▼ 光 FUJISAKI Hikaru; JP
代理人:
特許業務法人川口國際特許事務所 KAWAGUTI & PARTNERS; 東京都新宿区北新宿二丁目21番1号新宿フロントタワー20階 Shinjuku Front Tower 20F, 2-21-1 Kita-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1690074, JP
优先权数据:
2017-16399829.08.2017JP
标题 (EN) BLOCK COPOLYMER FOR PHOTOSENSITIVE PRINTING PLATE MATERIAL HAVING EXCELLENT ABRASION RESISTANCE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COPOLYMÈRE SÉQUENCÉ POUR MATÉRIAU DE PLAQUE D'IMPRESSION PHOTOSENSIBLE AYANT UNE EXCELLENTE RÉSISTANCE À L'ABRASION ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 耐摩耗性に優れた感光性印刷版材用ブロック共重合体及びその製造方法
摘要:
(EN) Provided is a flexographic printing plate having improved abrasion resistance in addition to the moderate elasticity (softness) required for a flexographic printing plate. The present invention is a block copolymer for a photosensitive printing plate material that is a block copolymer comprising a polymer block composed mainly of at least two aromatic vinyl monomers and a polymer block composed mainly of at least one conjugated diene monomer, wherein the aromatic vinyl monomer introduced into the polymer block composed mainly of a conjugated diene block is 25-50 mass% of the total bonded aromatic vinyl monomer content in the block copolymer.
(FR) L'invention concerne une plaque d'impression flexographique présentant une résistance à l'abrasion améliorée en plus de l'élasticité modérée (souplesse) requise pour une plaque d'impression flexographique. La présente invention concerne un copolymère séquencé pour un matériau de plaque d'impression photosensible qui est un copolymère séquencé comprenant un bloc polymère composé principalement d'au moins deux monomères vinyliques aromatiques et un bloc polymère composé principalement d'au moins un monomère diène conjugué, le monomère vinylique aromatique introduit dans le bloc polymère composé principalement d'un bloc de diène conjugué représentant de 25 à 50 % en masse du contenu total de monomère vinylique aromatique lié dans le copolymère séquencé.
(JA) フレキソ印刷版に要求される適度な弾性(柔らかさ)に加えて、改善された耐摩耗性を備えたフレキソ印刷版を提供する。本発明は、少なくとも2個の芳香族ビニル単量体を主体とする重合体ブロックと、少なくとも1個の共役ジエン単量体を主体とする重合体ブロックからなるブロック共重合体であって、該共役ジエンブロックを主体とする重合体ブロックに導入された芳香族ビニル単量体が該ブロック共重合体中の全結合芳香族ビニル単量体含有量の25~50重量%である感光性印刷版材用ブロック共重合体である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)