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1. (WO2019044339) ELECTRODE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2019/044339 国际申请号: PCT/JP2018/028740
公布日: 07.03.2019 国际申请日: 31.07.2018
国际专利分类:
H01B 5/14 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,G06F 3/041 (2006.01)
H 电学
01
基本电气元件
B
电缆;导体;绝缘体;导电、绝缘或介电材料的选择
5
按形状区分的非绝缘导体或导电物体
14
在绝缘支承物上有导电层或导电薄膜的
B 作业;运输
32
层状产品
B
层状产品,即由扁平的或非扁平的薄层,例如泡沫状的、蜂窝状的薄层构成的产品
7
以薄层之间的联系为特征的层状产品,即基本上包含具有不同物理性质薄层的产品,或以薄层之间的相互连接为特征的产品
02
关于物理性质,如硬度
G PHYSICS
06
计算;推算;计数
F
电数字数据处理
3
用于将所要处理的数据转变成为计算机能够处理的形式的输入装置;用于将数据从处理机传送到输出设备的输出装置,例如,接口装置
01
用于用户和计算机之间交互的输入装置或输入和输出组合装置
03
将部件的位置或位移转换成为代码形式的装置
041
以转换方式为特点的数字转换器,例如,触摸屏或触摸垫,特点在于转换方法
申请人:
NISSHA株式会社 NISSHA CO.,LTD. [JP/JP]; 京都府京都市中京区壬生花井町3番地 3, Mibu Hanai-cho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6048551, JP
发明人:
面 了明 Omote, Ryomei; JP
西川 和宏 Nishikawa, Kazuhiro; JP
寺谷 和臣 Teratani, Kazuomi; JP
坂田 喜博 Sakata, Yoshihiro; JP
西村 剛 Nishimura, Takeshi; JP
砂走 孝邦 Sunahase, Takakuni; JP
优先权数据:
2017-16607430.08.2017JP
标题 (EN) ELECTRODE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) FILM D'ÉLECTRODE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 電極フィルムおよびその製造方法
摘要:
(EN) [Problem] To provide an electrode film that is excellent in mesh pattern invisibility and image visibility, and a method for manufacturing the same. [Solution] A method for manufacturing an electrode film comprising: a step for sequentially stacking a metal layer and a black photoresist layer on a first principal surface of a transparent substrate; a step for partially exposing, developing, and patterning in a mesh shape the black photoresist layer; a step for processing the metal layer into a metal mesh electrode by, using the patterned black photoresist layer as an etching mask, etching the metal layer until the width thereof becomes smaller than the width of thin lines constituting a mesh of the black photoresist layer; and a step for softening the black photoresist layer by heating, and thereby covering not only the upper surface but also both side surfaces of each of thin lines constituting a mesh of the metal mesh electrode with a flap of the softened black photoresist layer.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un film d'électrode qui est excellent en termes d'invisibilité de motif de maillage et de visibilité d'image, et son procédé de fabrication. La solution selon l'invention concerne un procédé de fabrication d'un film d'électrode comprenant : une étape d'empilement séquentiel d'une couche métallique et d'une couche de résine photosensible noire sur une première surface principale d'un substrat transparent; une étape d'exposition partielle, de développement et de formation de motifs dans une forme de maille de la couche de résine photosensible noire; une étape de traitement de la couche métallique en une électrode à mailles métalliques par, à l'aide de la couche de résine photosensible noire à motifs en tant que masque de gravure, graver la couche métallique jusqu'à ce que sa largeur devienne plus petite que la largeur de lignes minces constituant un maillage de la couche de résine photosensible noire; et une étape pour ramollir la couche de résine photosensible noire par chauffage, et recouvrant ainsi non seulement la surface supérieure mais également les deux surfaces latérales de chacune des lignes fines constituant un maillage de l'électrode à mailles métalliques avec un rabat de la couche de résine photosensible noire ramollie.
(JA) 【課題】 メッシュパターンの不可視性および画像の視認性に優れた、電極フィルムおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 電極フィルムの製造方法は、透明基材の第一主面上に金属層、黒色フォトレジスト層を順次積層する工程と、前記黒色フォトレジスト層を部分的に露光し、現像してメッシュ形状にパターニングする工程と、パターニングされた前記黒色フォトレジスト層をエッチングマスクとして、前記黒色フォトレジスト層のメッシュを構成する細線幅より小幅となるまで前記金属層をエッチングして金属メッシュ電極に加工する工程と、前記黒色フォトレジスト層を加熱して軟化させ、軟化した前記黒色フォトレジスト層の垂れにより前記金属メッシュ電極のメッシュを構成する細線の上面のみならず両側面まで被覆させる工程と、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)