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1. (WO2019042682) APPARATUS FOR AND METHOD CLEANING A SUPPORT INSIDE A LITHOGRAPHY APPARATUS
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公布号: WO/2019/042682 国际申请号: PCT/EP2018/070653
公布日: 07.03.2019 国际申请日: 31.07.2018
国际专利分类:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
20
曝光及其设备
申请人:
ASML HOLDING N.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
发明人:
PEREZ-FALCON, Victor, Antonio; US
CHIEDA, Michael, Andrew; US
代理人:
SLENDERS, Peter; NL
优先权数据:
62/550,78528.08.2017US
标题 (EN) APPARATUS FOR AND METHOD CLEANING A SUPPORT INSIDE A LITHOGRAPHY APPARATUS
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'UN SUPPORT À L'INTÉRIEUR D'UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
摘要:
(EN) Methods and systems are described for cleaning a support such as a clamp of a chuck that holds a patterning device or a wafer in a lithographic apparatus. The method includes loading a electrostatic cleaning substrate into a lithographic apparatus. The electrostatic cleaning substrate includes at least one electrode. The method further includes bringing the electrostatic cleaning substrate near to the clamping surface to be cleaned and connecting the electrode to a voltage source. Particles present on the support are then transferred to the electrostatic cleaning substrate.
(FR) La présente invention porte sur des procédés et des systèmes de nettoyage d'un support tel qu'une pince d'un mandrin qui maintient un dispositif de modélisation ou une plaquette dans un appareil lithographique. Le procédé comprend le chargement d'un substrat de nettoyage électrostatique dans un appareil lithographique. Le substrat de nettoyage électrostatique comprend au moins une électrode. Le procédé consiste en outre à amener le substrat de nettoyage électrostatique à proximité de la surface de serrage devant être nettoyée et à connecter l'électrode à une source de tension. Les particules présentes sur le support sont ensuite transférées au substrat de nettoyage électrostatique.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 英语 (EN)
申请语言: 英语 (EN)