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1. (WO2019042052) 一种半导体器件
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公布号: WO/2019/042052 国际申请号: PCT/CN2018/097167
公布日: 07.03.2019 国际申请日: 26.07.2018
国际专利分类:
H01L 29/73 (2006.01) ,H01L 29/739 (2006.01)
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
29
专门适用于整流、放大、振荡或切换,并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒,例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器;半导体本体或其电极的零部件
66
按半导体器件的类型区分的
68
只能通过对一个不通有待整流、放大或切换的电流的电极供给电流或施加电位方可进行控制的
70
双极器件
72
晶体管型器件,如连续响应于所施加的控制信号的
73
双极结型晶体管
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
29
专门适用于整流、放大、振荡或切换,并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒,例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器;半导体本体或其电极的零部件
66
按半导体器件的类型区分的
68
只能通过对一个不通有待整流、放大或切换的电流的电极供给电流或施加电位方可进行控制的
70
双极器件
72
晶体管型器件,如连续响应于所施加的控制信号的
739
受场效应控制的
申请人:
昆仑芯电子科技(深圳)有限公司 KUNLUNCHIP ELECTRONIC TECHNOLOGY (SHENZHEN) CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 福田区福保街道菩提路68号金桂大厦A座三楼368B Room 368 B, Floor 3, Block A, Jingui Mansion 68 Puti Road, Fubao Subdistrict, Futian District Shenzhen, Guangdong 518000, CN
发明人:
吕信江 LYU, Xinjiang; CN
代理人:
广州市天河区倪律专利代理事务所(普通合伙) WINGUAN PATENT AND TRADEMARK ATTORNEYS; 中国广东省广州市 天河区思成路23号607 607, 23 Sicheng Road, Tianhe District Guangzhou, Guangdong 510663, CN
优先权数据:
201710757159.129.08.2017CN
标题 (EN) SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEUR
(ZH) 一种半导体器件
摘要:
(EN) A semiconductor device, comprising at least one cell. The structure of any cell comprises: an N-type substrate; at least one first groove unit and at least one second groove unit provided at one side of the N-type substrate; at least one P-type semiconductor region provided at the other side of the N-type substrate, the P-type semiconductor region being an anode region; at least one N-type current-carrier barrier region; and at least one P-type electric field shielding region. The purpose of the present invention is to provide a semiconductor device, which has a novel cell structure to obtain: a large safe operating area; an anti-short circuit capability; a function of eliminating a parasitic thyristor; low gate to collector charge (QGC) to obtain the highest anti-dv/dt capability; enhancement on conductivity modulation at an emitter side to obtain large electric current density and low forward voltage drop; small turn-off loss; and low process complexity.
(FR) L'invention concerne un dispositif à semi-conducteur comprenant au moins une cellule. La structure de n'importe quelle cellule comprend : un substrat de type N ; au moins une première unité de rainure et au moins une seconde unité de rainure disposées sur un côté du substrat de type N ; au moins une région semi-conductrice de type P disposée sur l'autre côté du substrat de type N, la région semi-conductrice de type P étant une région d'anode ; au moins une région de barrière de porteur de courant de type N ; et au moins une région de blindage de champ électrique de type P. Le but de la présente invention est de fournir un dispositif à semi-conducteur, qui a une nouvelle structure de cellule pour obtenir : une grande zone de fonctionnement sûre ; une capacité anti court-circuit ; une fonction d'élimination d'un thyristor parasite ; une charge grille à collecteur faible (QGC) pour obtenir la capacité anti-dv/dt la plus élevée ; l'amélioration de la modulation de conductivité au niveau d'un côté émetteur pour obtenir une grande densité de courant électrique et une faible chute de tension directe ; une faible perte de mise hors service ; et une faible complexité de traitement.
(ZH) 一种半导体器件,包括至少一个元胞,且任意一个元胞的结构包括:N型基底;在N型基底的一侧包含至少一个第一槽单元和至少一个第二槽单元;在N型基底的另一侧包含至少一个P型半导体区,P型半导体区称为阳极区;至少一个N型载流子势垒区;至少一个P型电场屏蔽区。本发明的目的在于提出一种半导体器件,该半导体器件具有新型的元胞结构,以获得:大的安全工作区;抗短路能力;消除寄生晶闸管的作用;低栅-集电极电荷(QGC)以获得最大的抗dv/dt能力;增加发射极侧电导调制,以获得较大的电流密度和极低的导通压降;较小的关断损耗;较低的工艺复杂性。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 中文 (ZH)
申请语言: 中文 (ZH)